2) n GaAs
n型重掺杂GaAs
3) p-type GaAs
p型GaAs
1.
To study the optical properties of p-type GaAs in far-infrared region,p-type(Be-doped) GaAs with carrier concentrations varied from 1.
砷化镓(GaAs)是太赫兹波段半导体异质结构激光器的重要材料之一,为了获得p型GaAs材料在远红外波段的光学特性,采用气态源分子束外延(GSMBE)技术在半绝缘GaAs(100)衬底上生长了掺Be的p型GaAs薄膜材料,其载流子浓度从1。
4) GaAs process foundry
GaAs工艺原型
5) Non-mask etch of n-GaAs
n-GaAs无掩模刻蚀
6) AlGaAs/GaAs
Al GaAs/GaAs
1.
We design and fabricate a 128×128 AlGaAs/GaAs quantum well infrared photodetector focal plane array (FPA).
报道了128×128 Al GaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器阵列的设计和制作。
补充资料：GaAs epitaxial wafer
分子式：
CAS号：
性质：在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ～5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等工业选择取决于器件结构等因素，一般LPE、VPE多用于商品化器件，如光探测器、霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于最子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。
CAS号：
性质：在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ～5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等工业选择取决于器件结构等因素，一般LPE、VPE多用于商品化器件，如光探测器、霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于最子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条