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1)  (AlN/GaN) multi buffer layer
(AlN/GaN)多缓冲层
2)  AlN buffer layer
AlN缓冲层
3)  GaN buffer layer
GaN缓冲层
1.
The reduction of buffer leakage current through GaN buffer layer when it is used for high-power operation is one of the most important problems.
其中大功率工作时GaN缓冲层的漏电引起器件功率和效率降低是最为棘手的问题之一。
2.
The results showed that,the heterostructure material based on a sapphire substrate with a low-temperature GaN nucleation layer and SiC substrate with a high-temperature AlN nucleation layer have smaller buffer leakage current and lower carrier concentration of the background GaN buffer layer than that based on a sapphire substrate with a low-temperature AlN nucleation layer.
深入分析发现,基于薄成核层的异质结材料在近衬底的GaN缓冲层中具有高浓度的n型GaN导电层,而基于厚成核层的异质结材料的GaN缓冲层则呈高阻特性。
4)  AlN and GaN epitaxial layer
AlN和GaN外延层
5)  (GaN)_n/(AlN)_n
(GaN)n/(AlN)n
6)  Al/AlN multilayer
Al/AlN多层膜
补充资料:缓冲层
分子式:
CAS号:

性质:斜交轮胎胎面与胎体之间的胶布层或胶层。其主要作用是缓和外来冲击,防止外层胶的龟裂直接抵达胎体帘布层,并承受轮胎在行驶时或突然停止时,由于惯性作用而产生的剪切应力。为此,它应具有较好的导热性、耐老化性、多次变形下的耐疲劳性和低生热性及耐热性等。所用的帘线强度必须高于胎体帘线。

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