1) AlN/Si_3N_4 multilayer
AlN/Si3N4纳米多层膜
1.
A series of AlN/Si_3N_4 multilayers with different Si_3N_4 thickness were synthesized by reactive magnetic sputtering.
采用反应磁控溅射法制备了一系列具有不同Si3N4层厚度的AlN/Si3N4纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能。
2) ZrN/Si_3N_4 multilayer
ZrN/Si3N4纳米多层膜
1.
The crystallization behavior of Si_3N_4 modulation layers in the multilayers and its influences on the microstructure and mechanical properties of ZrN/Si_3N_4 multilayers were studied.
研究了Si3N4层在ZrN/Si3N4纳米多层膜中的晶化现象及其对多层膜微结构与力学性能的影响。
3) TiN/Si_3N_4 nanomultilayers
TiN/Si3N4纳米多层膜
4) TiN/AlN nano-multilayer
TiN/AlN纳米多层膜
1.
Preparation and ultra micro-hardness of TiN/AlN nano-multilayer deposited by multi-arc ion plating;
多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应
2.
The impulse multi-arc ion plating technique is used to prepare TiN/AlN nano-multilayers.
采用脉冲多弧离子镀技术制备TiN/AlN纳米多层膜,随着调制周期的减小,稳定态六方AlN相逐渐转变成亚稳态立方AlN相,形成以TiN/AlN超晶格结构为主的超硬薄膜。
5) AlN/SiO_2 multilayer
AlN/SiO_2纳米多层膜
6) nanoscale AlN/CrN multilayered coatings
AlN/CrN纳米多层膜
1.
On synthesis and properties of nanoscale AlN/CrN multilayered coatings;
AlN/CrN纳米多层膜的制备及性能的研究
补充资料：Al
元素符号： al 英文名： aluminum 中文名： 铝
相对原子质量： 26.9815 常见化合价： +3 电负性： 1.61
外围电子排布： 3s2 3p1 核外电子排布： 2,8,3
同位素及放射线： al-26[730000y] *al-27 al-28[2.3m]
电子亲合和能： 48 kj·mol-1
第一电离能： 577.6 kj·mol-1 第二电离能： 1817 kj·mol-1 第三电离能： 2745 kj·mol-1
单质密度： 2.702 g/cm3 单质熔点： 660.37 ℃ 单质沸点： 2467 ℃
原子半径： 1.82 埃 离子半径： 0.51(+3) 埃 共价半径： 1.18 埃
常见化合物： al2o3 alcl3 al2s3 naalo2 al2(so4)3 al(oh)3
发现人： 厄斯泰德、维勒 时间： 1825 地点： 丹麦
名称由来：
拉丁文：alumen， aluminis（铝）。
元素描述：
柔软轻质的银白色金属，在地壳中含量第三。
元素来源：
自然界完全没有铝单质存在。可以电解铝土(al2o3)制取铝。
元素用途：
上自飞机下到易拉罐应用广泛。因为纯铝太柔软，所以要加入不到1%的硅或铁以加大其硬度和强度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条