1) silicon gate CMOS
硅栅CMOS
2) 0.5μm Silicon Gate CMOS technology
0.5μm硅栅CMOS技术
3) metal-gate CMOS
金属栅CMOS
4) 0.34μm Si CMOS
0.34μm硅CMOS
1.
An 80MSPS Dual-Rate Sampling 0.34μm Si CMOS Switched-Capacitor Filter;
80MSPS双采样0.34μm硅CMOS开关电容滤波器
5) bulk-Si CMOS devices
体硅CMOS器件
1.
A new method,pseudo-latchup path method, has been put forward that is based on latchup effects of bulk-Si CMOS devices .
从体硅CMOS器件的闭锁效应入手,提出了抑制闭锁的一种新方法——伪闭锁路径法。
6) silicon gate
硅栅
1.
The etching process for the 90 nm polycrystalline silicon gate was developed on the bases of a given layer stack pattern wafer with a hard-mask consisting of oxidation layer,polycrystalline silicon,SiO2 and SiON.
重点以具有栅氧化层、多晶硅层、二氧化硅和氮氧化硅复合硬掩膜层的典型结构图形晶片为基础,开展应用于90 nm技术节点的多晶硅栅的刻蚀工艺的研发,深入分析了氯气、溴化氢和氧气等反应气体在工艺中的作用,优化了工艺参数,得到了满足90 nm技术节点工艺要求的刻蚀结果。
补充资料：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物
CAS：28630-33-3
分子式：(C12H10Cl2Si·C6H5Cl3Si·C2H6Cl2Si·CH3Cl3Si)x
中文名称：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物
英文名称：Silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethylsilane and trichlorophenylsilane silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethyl
分子式：(C12H10Cl2Si·C6H5Cl3Si·C2H6Cl2Si·CH3Cl3Si)x
中文名称：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物
英文名称：Silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethylsilane and trichlorophenylsilane silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethyl
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条