1) Substrate mirror current
衬底镜像电流
2) substrate current
衬底电流
1.
Mechanism and impact of the double-hump substrate current in high-voltage double diffused drain MOS transistors;
高压双扩散漏端MOS晶体管双峰衬底电流的形成机理及其影响
2.
Modification of MOSFET s Substrate Current Model in Deep Submicrometer Regime;
MOSFET衬底电流模型在深亚微米尺寸下的修正
3.
As a monitor of hot-carrier-injection reliability,the substrate current(ISUB)usually increases in high voltage transistors,but has only one peak in standard low voltage transistors.
基于泊松方程和幸运电子模型,推出了适用于高压n型器件衬底电流(ISUB)的公式,并且为模拟和实验测量的结果所验证。
3) image current
镜像电流
1.
With the air-gap current and the image current adopted and Biot-Savart s law based,a numerical method,which divides the natural end-winding segments o.
通过引入气隙电流和镜像电流,以Biot-Savart定律为基础,把线圈端部各大段分成若干小段,用数值方法计算两线圈间端部电感。
2.
The leakage magnetic field in cable winding transformer core window was analyzed and calculated by means of image current,the relationship among vector magnetic potential,magnetic-flux-density and parity of image current was also described and the value of the vector magnetic potential and magnetic-flux-density can be accurately gained by using such duality rel.
应用镜像电流法对其铁心窗中的漏磁场进行了分析和计算,描述了场点处向量磁位、磁感应强度与镜像电流次数奇偶性的关系,利用这种对偶关系近似得到了场点处向量磁位和磁场感应强度的较准确值。
5) Silver Substrate
银镜衬底
6) mirror current source
镜像电流源
1.
This paper introduces the principle of the mirror current source that is composed of amplifiers.
本文简要介绍了由运算放大器构成的镜像电流源的基本原理,并演化出多种应用电路,可为使用者提供选择和参考。
补充资料：电子衍衬像
用透射电子显微镜拍摄的晶体衍射衬度像。可以用来观察晶体缺陷，如位错、层错等。
透射电子显微镜（见电子显微镜）于1932年问世之后，就因其分辨本领高而用来观察光学显微镜所看不见的细节。可是对于固体材料,由于电子的穿透本领弱,早期只能借助表面复型技术（用有机薄膜把固体表面状态复制下来）观察固体表面的形貌。这种电子显微像的衬度借助于物镜光阑孔对散射电子的吸收而形成，故称吸收衬度。50年代发展了薄膜制备技术，才开始用电子显微镜来观察固体材料的内部结构。在电子显微镜中，电子被薄晶体试样所衍射，用衍射束（或透射束）所形成的电子显微像，其衬度来源于衍射波振幅的变化，为衍射振幅衬度像，简称衍衬像。这样就发展了衍衬技术。
如果让透射束和衍射束同时参与成像，像就能反映出晶体结构的周期性（见点阵像）。但如果只让透射束或某个衍射束通过物镜光阑，则不能形成反映晶体结构周期的像。不过，因薄晶体下表面不同地点衍射波的振幅（及强度）分布对应于晶体各部分不同的衍射能力，当晶体中存在缺陷时，缺陷区域的衍射能力不同于完整区域，使各衍射波（及透射波）的振幅（及强度）分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布情形。这就是衍衬像的成像原理。晶体缺陷衍射强度的确切来由可借助电子衍射理论来阐明。运动学衍射理论可以给出一个定性的解释。动力学衍射理论可以给出定量的解释（见衍射动力学理论）。
衍衬像大体可分为两种类型：①是具有一定宏观不均匀性（厚度、取向不同等）的完整晶体所产生的，像上呈一些黑线,称为消光轮廓,类似物理光学中的等厚与等倾干涉条纹。②是由晶体缺陷所产生的。例如堆垛层错（见面缺陷）在像上表现为黑白相间的条纹（图1），位错则表现为直线或曲线（图2）。
在实际工作中，为了便于解释，常用双光束条件成像。为此需调整晶体取向，只令某一衍射束充分满足布喇格条件，这样就只有一个衍射束的强度比较强，可以只考虑此衍射束与透射束之间的相互作用。建立在上述近似基础上的衍射理论称双光束动力学理论，用它可以解释许多缺陷的衍射衬度。在双光束条件下，如果衍射束成像，所得的像称暗场像；若用透射束成像，则称明场像。
随着透射电子显微镜分辨本领的提高，70年代发展了弱束技术衍衬像。利用远离布喇格条件的弱衍射束得到的暗场像有较高的分辨率。
参考书目
全国第二届金属物理学术会议论文集编辑委员会编：《X射线学及电子显微术进展》，第267页，上海科学技术出版社，上海，1966。
P.B.Hirsch,et αl.,Electron Microscopy of Thin Crystals,2nd ed., Krieger, New York, 1977.
透射电子显微镜（见电子显微镜）于1932年问世之后，就因其分辨本领高而用来观察光学显微镜所看不见的细节。可是对于固体材料,由于电子的穿透本领弱,早期只能借助表面复型技术（用有机薄膜把固体表面状态复制下来）观察固体表面的形貌。这种电子显微像的衬度借助于物镜光阑孔对散射电子的吸收而形成，故称吸收衬度。50年代发展了薄膜制备技术，才开始用电子显微镜来观察固体材料的内部结构。在电子显微镜中，电子被薄晶体试样所衍射，用衍射束（或透射束）所形成的电子显微像，其衬度来源于衍射波振幅的变化，为衍射振幅衬度像，简称衍衬像。这样就发展了衍衬技术。
如果让透射束和衍射束同时参与成像，像就能反映出晶体结构的周期性（见点阵像）。但如果只让透射束或某个衍射束通过物镜光阑，则不能形成反映晶体结构周期的像。不过，因薄晶体下表面不同地点衍射波的振幅（及强度）分布对应于晶体各部分不同的衍射能力，当晶体中存在缺陷时，缺陷区域的衍射能力不同于完整区域，使各衍射波（及透射波）的振幅（及强度）分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布情形。这就是衍衬像的成像原理。晶体缺陷衍射强度的确切来由可借助电子衍射理论来阐明。运动学衍射理论可以给出一个定性的解释。动力学衍射理论可以给出定量的解释（见衍射动力学理论）。
衍衬像大体可分为两种类型：①是具有一定宏观不均匀性（厚度、取向不同等）的完整晶体所产生的，像上呈一些黑线,称为消光轮廓,类似物理光学中的等厚与等倾干涉条纹。②是由晶体缺陷所产生的。例如堆垛层错（见面缺陷）在像上表现为黑白相间的条纹（图1），位错则表现为直线或曲线（图2）。
在实际工作中，为了便于解释，常用双光束条件成像。为此需调整晶体取向，只令某一衍射束充分满足布喇格条件，这样就只有一个衍射束的强度比较强，可以只考虑此衍射束与透射束之间的相互作用。建立在上述近似基础上的衍射理论称双光束动力学理论，用它可以解释许多缺陷的衍射衬度。在双光束条件下，如果衍射束成像，所得的像称暗场像；若用透射束成像，则称明场像。
随着透射电子显微镜分辨本领的提高，70年代发展了弱束技术衍衬像。利用远离布喇格条件的弱衍射束得到的暗场像有较高的分辨率。
参考书目
全国第二届金属物理学术会议论文集编辑委员会编：《X射线学及电子显微术进展》，第267页，上海科学技术出版社，上海，1966。
P.B.Hirsch,et αl.,Electron Microscopy of Thin Crystals,2nd ed., Krieger, New York, 1977.
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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