1) buck voltage
衬底电压
2) substrate control
衬底电压选择
3) substrate bias voltage
衬底偏压
1.
A positive grid bias and a negative substrate bias voltages are applied to the self-made hot filament chemical vapor deposited (HFCVD) system.
在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压,采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜。
2.
The effect of substrate bias voltage on magnetic properties of γ′-Fe4N thin films were investigated.
利用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究衬底偏压对γ′-Fe4N薄膜样品的影响。
4) substrate bias
衬底偏压
1.
Structure and properties of ta-C films deposited by filtered cathodic vacuum arc technology as a function of substrate bias;
衬底偏压对四面体非晶碳膜结构和性能的影响
2.
Optical emission spectroscopy and Fourier transform power and impedance analysis have been used to investigate the effects of substrate bias and glow discharge on the plasma optical and electrical properties for the deposition of microcrystalline silicon.
采用空间分辨光发射谱和傅里叶变换功率阻抗分析仪研究了衬底偏压和辉光功率对微晶硅薄膜沉积过程中的等离子体光学与电学特性的影响。
3.
According to the dependence of film density on substrate bias, it is found that the film density reaches a maximal value of 3.
利用过滤阴极真空电弧系统制备了不同衬底偏压下非晶金刚石薄膜,分别采用X射线反射法测定了相应的非晶金刚石膜密度,分析了薄膜密度与沉积能量之间的变化规律,建立了薄膜密度随衬底偏压的变化曲线。
5) substrate resistance
衬底电阻
1.
An accurate method to extract substrate resistances of RF MOSFETs is proposed.
通过对CMOS的PSP模型中四衬底电阻网络的等效电路进行Y参数分析,得到衬底电阻参数的完整提取方法。
6) substrate current
衬底电流
1.
Mechanism and impact of the double-hump substrate current in high-voltage double diffused drain MOS transistors;
高压双扩散漏端MOS晶体管双峰衬底电流的形成机理及其影响
2.
Modification of MOSFET s Substrate Current Model in Deep Submicrometer Regime;
MOSFET衬底电流模型在深亚微米尺寸下的修正
3.
As a monitor of hot-carrier-injection reliability,the substrate current(ISUB)usually increases in high voltage transistors,but has only one peak in standard low voltage transistors.
基于泊松方程和幸运电子模型,推出了适用于高压n型器件衬底电流(ISUB)的公式,并且为模拟和实验测量的结果所验证。
补充资料：衬经衬纬圆纬机
用以编织衬经衬纬针织物的圆型纬编针织机。它在编织平针组织的同时,衬入不参加成圈的经纱和纬纱,形成衬经衬纬针织物。其基本组织结构如图1所示。 这种针织物的纵向和横向的延伸度都较小，具有机织物的特性，除适合做各种外衣外，还可作灌溉用涂塑管道的骨架。在衬经衬纬圆纬机上，有三组纱线：衬经纱、衬纬纱、成圈纱参加编织。其编织机构如图2所示。
机器的针筒固定在台面上，三角座相对于针筒回转。衬经纱从固定的纱架上引出，通过分经盘（或导经片）由上而下经过针间衬入织物线圈纵行间。所有衬经纱从针筒口向外倾斜一定角度，形成圆锥面，便于成圈纱的喂入。衬纬纱筒子架位于衬经纱外侧，与三角座一起回转，通过导纬器将纬纱衬入针背与经纱之间，依次横向搁在针上的旧线圈上方。成圈纱筒子架位于衬经纱内侧，与三角座同步回转。导纱器处于织针与衬经纱之间，把成圈纱喂入针钩内编织成圈，形成平针组织，同时，使其线圈的沉降弧从内侧包住衬经纱，圈柱从外侧包住衬纬纱，从而使三组纱线结合在一起，形成一种基本的衬经衬纬针织物。 衬经衬纬针织物用于外衣产品时，由于衬经纱和衬纬纱之间没有交织点，易于拱出，因此，需改变其组织结构。例如，通过导经片将衬经纱在针头上绕一圈，并把它向下转移到旧线圈处,再和旧线圈一起向上套圈,使衬经纱与成圈纱结合得更紧密。另外，适当加粗衬纬纱，也可提高衬经衬纬针织物的结构稳定性。
机器的针筒固定在台面上，三角座相对于针筒回转。衬经纱从固定的纱架上引出，通过分经盘（或导经片）由上而下经过针间衬入织物线圈纵行间。所有衬经纱从针筒口向外倾斜一定角度，形成圆锥面，便于成圈纱的喂入。衬纬纱筒子架位于衬经纱外侧，与三角座一起回转，通过导纬器将纬纱衬入针背与经纱之间，依次横向搁在针上的旧线圈上方。成圈纱筒子架位于衬经纱内侧，与三角座同步回转。导纱器处于织针与衬经纱之间，把成圈纱喂入针钩内编织成圈，形成平针组织，同时，使其线圈的沉降弧从内侧包住衬经纱，圈柱从外侧包住衬纬纱，从而使三组纱线结合在一起，形成一种基本的衬经衬纬针织物。 衬经衬纬针织物用于外衣产品时，由于衬经纱和衬纬纱之间没有交织点，易于拱出，因此，需改变其组织结构。例如，通过导经片将衬经纱在针头上绕一圈，并把它向下转移到旧线圈处,再和旧线圈一起向上套圈,使衬经纱与成圈纱结合得更紧密。另外，适当加粗衬纬纱，也可提高衬经衬纬针织物的结构稳定性。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条