1) water-soluble photoresist
水溶性光致抗蚀剂
1.
Studies on water-soluble photoresists during the last decade have been summarized in two parts: traditional photochemical reaction type and chemically amplified type.
本文按传统光化学反应型和化学增幅型两种类型对近10年水溶性光致抗蚀剂的发展状况做了分类总结,并重点介绍了成像反应原理和各体系的优缺点。
2) water-soluble negative photoresist
水溶性负性光致抗蚀剂
3) photoresists containing wastewater
光致抗蚀剂废水
1.
The inorganic and organic pollutants in the photoresists containing wastewater after the treatment of the iron chipping micro electrolysis are analyzed by ICP-AES and GC-MS.
采用色谱 -质谱联用分析仪和电感耦合等离子体发射光谱仪分析和鉴定了光致抗蚀剂废水中的污染物。
4) Positive photoresist
正性光致抗蚀剂
5) water soluble photochromatism dry photoresist
水溶性光致变色抗蚀干膜
6) Photoresists
光致抗蚀剂
1.
The importance of photoresists in microelectronic industry is described in this review,emphasizing the characteristics of polysilane photoresists and the developing situation of ultra violet, deep ultraviolet, X-ray,electron-beam polysilane photoresists etc.
概述了光致抗蚀剂在微电子工业中的作用,着重介绍了聚硅烷光致抗蚀剂的特点,以及聚硅烷紫外、深紫外、X射线、电子未等抗蚀剂的发展状
2.
Polysilynes, a new kind of high-performance materials, are reviewed on the present investigation of their synthesis, structure, reactions and applications as semiconductors, conductive SiC thin films, optical waveguides and photoresists.
本文综述了一类新型的高功能材料——聚硅炔的合成、结构、反应以及作为半导体、导电性SiC薄膜、光学波导器和光致抗蚀剂的应用的研究现状。
补充资料：水溶性光敏抗蚀干膜
分子式：
CAS号：
性质：其产品结构、制造方法、使用方法、产品性能与溶剂型光敏抗蚀干膜类似。不同之处在于感光层由带水性基团的成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成，采用稀碱溶液显影和去膜，改善了生产环境，使用安全，三废容易处理，耐各种酸性蚀刻液和耐酸性镀铜、镀铅锡合金。广泛应用于各种高精度、高密度、高可靠性的双面孔金属化印制电路板与多层印制版的生产和制造，制作精密的耐腐蚀、耐电镀图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
CAS号：
性质：其产品结构、制造方法、使用方法、产品性能与溶剂型光敏抗蚀干膜类似。不同之处在于感光层由带水性基团的成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成，采用稀碱溶液显影和去膜，改善了生产环境，使用安全，三废容易处理，耐各种酸性蚀刻液和耐酸性镀铜、镀铅锡合金。广泛应用于各种高精度、高密度、高可靠性的双面孔金属化印制电路板与多层印制版的生产和制造，制作精密的耐腐蚀、耐电镀图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条