1) isolated SIO2
二氧化硅隔离层
4) NiO buffer layer
氧化镍隔离层
5) Oxidizing layer/Molybdenum disilicide
氧化层/二硅化钼
6) free silica
游离二氧化硅
1.
Free silica in geological exploration dust is measured by both Xray diffraction and pyrophosphoric acid methods.
对粉尘中游离二氧化硅含量进行了X线衍射法和焦磷酸消化法的对比测定。
2.
A method for chemical phase analysis of free silica in limestone was discussed in this paper.
介绍了石灰岩中游离二氧化硅的化学物相分析方法。
补充资料:隔离层
分子式:
CAS号:
性质:为在电学上实现集成电路器件的功能元件的隔离的那一部分。该隔离层特别用于双极型器件,通常由扩散剂制成。隔离层通常为掩模层1或掩模层2,它是遍及整个晶片区域的细线方框。
CAS号:
性质:为在电学上实现集成电路器件的功能元件的隔离的那一部分。该隔离层特别用于双极型器件,通常由扩散剂制成。隔离层通常为掩模层1或掩模层2,它是遍及整个晶片区域的细线方框。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条