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1)  multilayer sputtering
多层溅射
1.
Tungsten silicides with different compositions are prepared from multilayer sputtering on silicon substrate by annealing at temperatures ranging from 400 to 1000℃ in vacuum.
采用多层溅射技术制备了不同成分的WSix/Si薄膜,然后利用真空退火形成硅化钨。
2)  multilayer-sputtering
多层膜溅射
1.
Two different sputtering modes, co-sputtering and multilayer-sputtering, were used to fabricate FePt:Ag granular thin films.
采用共溅射和多层膜溅射两种不同的溅射方式制备FePt:Ag颗粒膜。
3)  sputtered coating
溅射涂层
1.
Post-aluminizing was performed on the sputtered coating to further upgrade its corrosion resistance.
结果表明:溅射涂层中的Cr和表面生成的Cr2O3会与盐和水蒸气反应,涂层与基体产生剥离,腐蚀相当严重,失去保护作用;渗Al涂层表面形成了单相的薄而致密的Al2O3膜,Al2O3保护膜在盐和水蒸气环境中具有很高的化学稳定性,可以对原溅射涂层起到有效的保护作用。
4)  multi target sputtering
多靶溅射
5)  Multi-Arc sputtering
多弧溅射
6)  sputtered NiCrAlY coating
溅射NiCrAlY涂层
1.
The isothermal oxidation of sputtered NiCrAlY coatings was performed in air at 900℃,1000℃ and 1100℃.
对溅射NiCrAlY涂层进行了 90 0℃ ,10 0 0℃ ,110 0℃空气中高温氧化。
补充资料:多层沉积层
分子式:
CAS号:

性质:由两种或两种以上相继沉积的金属构成的沉积层。这些沉积层可以由不同特性的同一金属或不同金属构成。如为了提高镍镀层的防护性,有时采用双层镍或三层镍镀层。又如为防护-装饰目的采用的铜/镍/铬三层镀层。

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参考词条