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1)  CVD
化学气相沉淀
1.
NUMERICAL SIMULATIONS OF MICROWAVE PLASMA REACTORS FOR DIAMOND CVD;
并依据实验中的一些可变参数 ,寻求影响等离子体放电位置的参数 ,为设计化学气相沉淀(CVD)技术沉积大面积金刚石膜微波反应腔提供依
2)  chemical liquid phase coprecipitation
化学液相共沉淀
3)  liquid chemical precipitation
液相化学沉淀
4)  liquid chemical co-precipitation
液相化学共沉淀
5)  Gas-Liquid Chemical Precipitation Process
气-液化学沉淀法
6)  chemical sedimentation
化学沉淀
1.
On the basis of the basic principle of chemical sedimentation process, the chemicalsedimentation process that treats sulphide in acetylene sludge wastewater using FeSO.
根据化学沉淀法的基本原理,提出了利用FeSO4及盐泥(工业废料)为药剂的化学沉淀法处理电石渣浆废水中硫化物的处理方法。
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:

性质:PCVD  化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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参考词条