1) CVD
化学气相沉淀
1.
NUMERICAL SIMULATIONS OF MICROWAVE PLASMA REACTORS FOR DIAMOND CVD;
并依据实验中的一些可变参数 ,寻求影响等离子体放电位置的参数 ,为设计化学气相沉淀(CVD)技术沉积大面积金刚石膜微波反应腔提供依
3) liquid chemical precipitation
液相化学沉淀
4) liquid chemical co-precipitation
液相化学共沉淀
5) Gas-Liquid Chemical Precipitation Process
气-液化学沉淀法
6) chemical sedimentation
化学沉淀
1.
On the basis of the basic principle of chemical sedimentation process, the chemicalsedimentation process that treats sulphide in acetylene sludge wastewater using FeSO.
根据化学沉淀法的基本原理,提出了利用FeSO4及盐泥(工业废料)为药剂的化学沉淀法处理电石渣浆废水中硫化物的处理方法。
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条