1)  plating
掩膜电铸
1.
The evaporating and plating technology of fabrication magnetic core has been mainly researched.
重点研究用蒸镀和掩膜电铸两种途径制备微型磁通门磁芯的工艺,研究了不同电铸工艺参数(镀液中c(Fe~(2+))/c(Ni~(2+))比、电流密度、pH 值)对镀层组份的影响并获得较为理想的成分比。
2)  Mask
掩膜
1.
Research on thick photoresist mask electroplating process in micro-fabrication;
微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究
2.
Micro Multiple Holes Produced by Through-mask Electrochemical Machining In Metal Sheets;
金属薄板微小群孔掩膜电解加工技术研究
3.
X Ray Mask in LIGA Process;
LIGA 技术中的 X 射线掩膜
3)  masking
掩膜
1.
Research of Aided Masking Technique in Videcomp;
视频合成中辅助掩膜技术的研究
2.
In view of the deficiency of the traditional man-made masking method, a computer-aided masking algorithm is presented.
针对视频合成中采用的人工掩膜方式的不足，提出一种计算机辅助掩膜生成算 法。
4)  mask layer
掩膜
1.
It may used to be mask layer in the super-resolution optical disks.
Ge Sb Te是一种良好的相变光存储材料 ,在超分辨光盘中可作为掩膜。
5)  picture masking
图像掩膜
6)  Masking films method
掩膜法
参考词条
补充资料：掩模版保护膜
分子式：
CAS号：

性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。