1) Photomask
光掩膜版
2) photomask
光掩模
1.
Study of Competition Strategy for Toppan Photomask Company LTD, Shanghai;
上海凸版光掩模有限公司竞争战略研究
2.
Acted as the process base of wafer fab for the past several years while the use of CAR resist is rapidly increasing, the DNQ resist still works well in photomask fabrication due to the 4X or 5X image reduction transferred from photomask to wafer.
THMR-IP系列光刻胶是基于DNQ材料的一种i线光刻胶,被广泛用于i线光刻机的硅片产品及i线图形发生器的光掩模产品上。
3) x-ray mask
x光掩模
4) mask
光掩膜
1.
A novel scanner focus monitor method and system with phase shift mask were introduced and experimented.
实验结果表明,通过利用相移光掩膜(光掩膜即光刻掩膜版)的某些特性将监测焦距的方式从传统的线宽测量机台转移到套准测量机台上,可以很好的避免传统监测方式下许多不确定因素的干扰,提高监测的精确性和稳定性,减少监测时间,并同时可用于对光刻机台最重要的组件“镜头”以及曝光托盘平整度和倾斜度的监测,满足了对下一代光刻工艺焦距监测的要求。
5) photomasking
光掩蔽
6) photomask repair
光掩模修复
参考词条
补充资料：掩模版保护膜
分子式：
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。