1)  maskless
无掩膜
2)  maskless lithography
无掩膜曝光
3)  maskless printing
无掩膜印刷
4)  "maskless etching"
“无掩膜”腐蚀
5)  maskless lithography
无掩膜光刻
6)  maskless etching
无掩膜腐蚀
参考词条
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:

性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

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