1) maskless
无掩膜
2) maskless lithography
无掩膜曝光
3) maskless printing
无掩膜印刷
4) "maskless etching"
“无掩膜”腐蚀
5) maskless lithography
无掩膜光刻
6) maskless etching
无掩膜腐蚀
参考词条
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。