1) gaussian mask
高斯掩膜
2) Guassian unsharp masking threthold segmentation
高斯钝化掩膜阈值分割
3) highly resistive silicon mask
高阻硅掩膜
1.
The results of te st on the PS array show that the highly resistive silicon mask keeps its integrity very well during th e anodic oxidation process and can produce PS array with good integrity and distribution.
介绍一种在低阻P型硅衬底上用氢离子注入技术形成局部高阻硅掩膜,用电化学腐蚀选择性生长多孔硅微阵列的工艺流程。
4) Gaussion filter mask
高斯滤波掩模
5) Mask
[英][mɑ:sk] [美][mæsk]
掩膜
1.
Research on thick photoresist mask electroplating process in micro-fabrication;
微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究
2.
Micro Multiple Holes Produced by Through-mask Electrochemical Machining In Metal Sheets;
金属薄板微小群孔掩膜电解加工技术研究
3.
X Ray Mask in LIGA Process;
LIGA 技术中的 X 射线掩膜
6) masking
[英]['mɑ:skiŋ] [美]['mæskɪŋ]
掩膜
1.
Research of Aided Masking Technique in Videcomp;
视频合成中辅助掩膜技术的研究
2.
In view of the deficiency of the traditional man-made masking method, a computer-aided masking algorithm is presented.
针对视频合成中采用的人工掩膜方式的不足，提出一种计算机辅助掩膜生成算 法。
3.
The method includes three steps,namely,data-inspection-evaluation,interference deletion(or masking technique),the delineation and grading of remote sensing anomaly.
该方法包括数据检查评价、干扰去除(或称掩膜)、遥感异常的圈定及分级3部分。
补充资料：掩模版保护膜
分子式：
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条