1) MWECR-CVD
微波电子回旋共振等离子体CVD
1.
Recent developments over the past decade in the preparation of a-Si∶H films are reviewed, with emphasis on a new means to increase the deposition rate by microwave electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition (MWECR-CVD).
为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 。
3) ECR sputtering method
电子回旋共振微波等离子体溅射
4) ECR(electron cyclotron resonance) plasma
电子回旋共振微波反应等离子体
5) electron cyclotron resonance-microwave plasma chemical vapor deposition(ECR-MPCVD)
电子回旋共振-微波等离子体化学气相沉积
6) Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition
微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积
补充资料：电子自旋共振(见电子回旋共振)
电子自旋共振(见电子回旋共振)
electron spin resonance
电子自旋共振eleetron spin resonanee见电子回旋共振。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条