1) microwave plasma CVD
微波等离子体CVD
1.
Diamond film deposition was conducted using microwave plasma CVD method and the low temperature deposition technique.
本文采用真空电子束蒸镀技术在多谱段ZnS衬底上沉积了适合金刚石膜沉积的致密陶瓷过渡层,并利用微波等离子体CVD金刚石膜低温沉积技术进行了金刚石膜沉积研究。
2.
Uniform and compact nanocrystalline diamond thin films were deposited on quartz tube substrate with the gas mixture of ethanol and hydrogen by microwave plasma CVD equipment which has a novel type of resonance cavity.
在具有新型谐振腔的微波等离子体CVD装置上,利用乙醇和氢气为工作气体在石英玻璃管外表面沉积了均匀、致密的纳米金刚石薄膜。
2) MPCVD
微波等离子体CVD法
1.
Diamond Film Growth on Non-planar Substrate by MPCVD;
微波等离子体CVD法在非平面基体上生长金刚石膜
3) Microwave-plasma assisted CVD
微波等离子体-CVD 法
4) MWECR-CVD
微波电子回旋共振等离子体CVD
1.
Recent developments over the past decade in the preparation of a-Si∶H films are reviewed, with emphasis on a new means to increase the deposition rate by microwave electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition (MWECR-CVD).
为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 。
5) microwave plasma chemical vapor deposition(CVD)
微波等离子体化学气相沉积(CVD)
6) linear-coaxially coupled microwave plasma CVD device
线形微波等离子体CVD设备
补充资料：电感耦合微波等离子体焰炬
分子式：
CAS号：
性质： 由微波感生、用于发射光谱分析的等离子体光源。将发生等离子体焰炬的石英管，置于微波谐振腔中，以2450MHz的微波激发。产生的光谱简单，背景低，耗气与耗电量小。
CAS号：
性质： 由微波感生、用于发射光谱分析的等离子体光源。将发生等离子体焰炬的石英管，置于微波谐振腔中，以2450MHz的微波激发。产生的光谱简单，背景低，耗气与耗电量小。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条