1) UV/TiO2/H2O2
UV/TiO2/H2O2
1.
The degradation of trace nitrobenzene in water by UV/H2O2 and UV/TiO2/H2O2 was compared, as well as the influences of bicarbonate ion and humic acid.
研究比较了UV/H2O2和UV/TiO2/H2O2对水中微量硝基苯的降解效果,并考察了水中常见HCO3-和腐殖酸对硝基苯降解的影响。
2) UV
UV
1.
Bromate Ions Formation in UV/Chlorination Processes for Bromide-Containing Solutions;
UV/氯联合处理含溴溶液中溴酸根的生成
2.
UV/Fenton Photocatalytic Oxidation Process for Treatment of Liquid Crystal Display Cleaning Wastewater;
UV/Fenton光催化氧化法处理液晶显示屏清洗废水
3.
Study on UV Sterilizing Dynamics Work on Wastewater;
污水UV消毒动力学研究
3) UV-A
UV-A
1.
The white peel of an enlarged root in ‘Tsuda’ plants turned red after irradiated with UV-A light for 48h, but remained white when held in the dark.
利用UV-A处理48h后津田芜菁块根变红,以黑暗处理条件下的白色块根为对照,与削减文库特异基因片段制备的cDNA微阵列进行杂交。
2.
In Arabidopsis anthocyanin biosynthesis is induced by red, UV-A, blue, and UV-B light through phytochromes, cryptochromes and UV-B receptor, respectively.
如红光、UV-A光、蓝光、UV-B光均可通过相应的光敏色素、隐花色素(蓝光/UV—A受体)、UV-B受体诱导拟南芥花青素的合成。
4) UV-LIGA
UV-LIGA
1.
Implementation of Eddy Current Sensor Using UV-LIGA Technology;
基于UV-LIGA技术的电涡流传感器研制
2.
Fabrication of nickel soft contact microprobe based on UV-LIGA;
UV-LIGA技术制备微型柔性镍接触探针
3.
Experimental Research on Fabrication of Micro-structures & Micro-devices by UV-LIGA;
基于UV-LIGA技术制造微结构器件试验研究
5) UV Raman
UV Raman
6) UV/Fenton
UV/Fenton
1.
Experimental Study on the Degradation of dyeing Wastewater by UV/Fenton Oxidation Process;
UV/Fenton光氧化降解活性艳红染料废水的试验研究
2.
Study on Nitrobenzene Wastewater Treatment by UV/Fenton Oxidation;
UV/Fenton法处理硝基苯废水的试验研究
3.
Treatment of Triazophos Pesticide Wastewater by UV/Fenton Reagent;
UV/Fenton处理三唑磷农药废水
参考词条
HPLC-UV
UV值
UV-C
LC-UV
UV-CTP
UV/O_3
UV光
UV谱
UV胶
UV计
UV/H_2O_2
UV法
UV/Fenton/TiO2
UV漆
DP-UV
井巷掘进
给付管理
补充资料:CaO-TiO2-SiO2 ceramics
分子式:
CAS号:
性质:在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存,性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅,加入少量改性添加剂,经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品,也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙,用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等,以确保两晶相共存。主要介电性能为:介电常数80~110,介质损耗角正切值(0.8~2.5)×10-4,介电常数温度系数(-450~+550)×10-6/℃。抗电温度(45~55)kV/mm,电阻率(1011~1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
CAS号:
性质:在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存,性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅,加入少量改性添加剂,经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品,也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙,用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等,以确保两晶相共存。主要介电性能为:介电常数80~110,介质损耗角正切值(0.8~2.5)×10-4,介电常数温度系数(-450~+550)×10-6/℃。抗电温度(45~55)kV/mm,电阻率(1011~1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。