1) UV/Fenton/TiO_2
UV/Fenton/TiO2
1.
Treatment of phenol-containing wastewater was studied with UV/Fenton/TiO_2.
研究了在UV/Fenton/TiO2催化作用下,对含酚废水的处理情况,同时还与单独用Fenton试剂和UV/TiO2处理情况作了对比。
2) Fenton and UV/Fenton
Fenton及UV/Fenton
3) UV/Fenton process
UV/Fenton法
1.
The treatment effects of Liquid Crystal Display(LCD) cleaning wastewater through the UV/Fenton process were evaluated in brief.
简要评价了UV/Fenton法处理液晶显示屏清洗废水的效果,并对其出水的后续处理工艺做了进一步的研究。
4) UV/Fenton reagent
UV/Fenton试剂
1.
The waste water produced by DDNP production was treated by using UV/Fenton reagent.
用UV/Fenton试剂的高氧化技术对DDNP废水处理进行了实验研究,研究了pH值、H2O2投加量、Fe2+投加量、光照时间等影响因素。
6) Fenton/UV system
Fenton/UV体系
补充资料：CaO-TiO2-SiO2 ceramics
分子式：
CAS号：
性质：在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存，性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅，加入少量改性添加剂，经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品，也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙，用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等，以确保两晶相共存。主要介电性能为：介电常数80～110，介质损耗角正切值(0.8～2.5)×10-4，介电常数温度系数(-450～+550)×10-6/℃。抗电温度(45～55)kV/mm，电阻率(1011～1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
CAS号：
性质：在CaO-TiO2-SiO2三元系统中以CaSiO3与TiO2或以CaTiSiO5与CaTiO3为基料的陶瓷材料。其结构特点是两种晶相共存，性能受晶相比例影响。配比可在一定范围内调节。主要原料为碳酸钙、二氧化钛、二氧化硅，加入少量改性添加剂，经配料、磨细、混合、成型、烧成等工序获得制品，也可先用碳酸钙和二氧化硅高温下合成硅酸钙，用碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛高温下合成钛硅酸钙后再进行配料、烧成等，以确保两晶相共存。主要介电性能为：介电常数80～110，介质损耗角正切值(0.8～2.5)×10-4，介电常数温度系数(-450～+550)×10-6/℃。抗电温度(45～55)kV/mm，电阻率(1011～1012)Ω·cm。主要用作温度补偿型陶瓷电容器瓷料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条