1) etching alkaline solution
碱溶液刻蚀
2) alkaline-tailored method
碱溶液刻蚀法
1.
In this article the progresses in the synthesis of hierarchical zeolite with mesopores are reviewed,emphatically on the alkaline-tailored method,synthesis within lim.
综述了近年来在沸石多级结构化方面的研究进展,着重介绍了碱溶液刻蚀法、介孔间隙合成法和碳模板剂法等各种途径,并简介了沸石材料在生命科学中的一些新应用,包括沸石止血材料、控释药物和生物芯片。
3) Alkaline etcher
碱性蚀刻液
4) recycling of alkaline etching solution
碱性蚀刻液再生
1.
Some new processes and technologies for electronics finishing were introduced, such as wafer plating, electrochemical mechanical polishing, microelectro-mechanical system plating, copper plating using insoluble anode, platinized niobium electrode, lead and cadmium free eleclroless nickel, recycling of alkaline etching solution and reclaiming system of copper.
介绍了电子电镀中的若干新工艺新技术,如芯片电镀、电化学机械研磨、微机电系统电镀、不溶性阳极电镀铜、镀铂铌电极以及无铅无镉中磷光亮化学镀镍、碱性蚀刻液再生和铜回收系统等。
5) ammonia etching wastewater
碱氨蚀刻废液
1.
Some experimental methods for the treatment of ammonia etching wastewater are introduced.
报告了碱氨蚀刻废液处理方法的试验研究。
6) alkaline waste etching liquid
碱性蚀刻废液
1.
A reagent for removing lead of alkaline waste etching liquid and its removing lead rate equation by quadratic orthogonal designing;
二次回归正交法碱性蚀刻废液除铅剂配方设计及除铅方程
补充资料：电化学刻蚀
分子式：
CAS号：
性质：也称电解浸蚀。在一定的电解液中，采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多，例如在印刷电路板的制作中，通过如下反应：Cu→Cu2++2e-(阳极) ；2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中，对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2，FeCl3，H2CrO4，NH4Cl，H2O2-H2SO4等。
CAS号：
性质：也称电解浸蚀。在一定的电解液中，采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多，例如在印刷电路板的制作中，通过如下反应：Cu→Cu2++2e-(阳极) ；2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中，对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2，FeCl3，H2CrO4，NH4Cl，H2O2-H2SO4等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条