补充资料：溶剂型光敏抗蚀干膜

分子式：
CAS号：

性质：光敏抗蚀干膜有溶剂型和水溶性两种不同类型。由聚酯薄膜、感光层和聚乙烯薄膜三合一的感光膜。中间的感光层由成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成。其制法是将感光层的各种组分溶解于溶剂中配成胶液，在一定温度下涂布于聚酯薄膜，收卷成筒，包装成产品。使用时先将聚乙烯保护膜撕去，通过热将将感光层粘压到敷铜板上，再经紫外光曝光，显影时未感光的部分被洗去，感光部分黏附在金属表面形成图形，起抗蚀抗电镀作用。干膜涂布均匀，涂层较厚，图形边缘线条陡直，提供了很高的分辨率。采用三氯乙烷、二甲苯、乙酸丁酯等有机溶剂显影。抗蚀性能强，可耐碱、耐酸性腐蚀和电镀，性能稳定可靠。用于双面及多层电路板的生产，制作精密的耐腐蚀耐电镀图形，稳定性优于水溶性干膜。由于采用溶剂显影，成本高，毒性大，操作不便，污染环境，逐步被水溶性光敏抗蚀干膜所替代。

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