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1)  ECR plasma
ECR等离子体
1.
The microwave ECR plasma source device of state key laboratory of materials modification by laser,ion and electron beams belongs to Dalian University of Technology.
本文根据大连理工大学三束材料改性国家重点实验室的电子回旋共振(ECR)微波等离子实验装置,结合等离子体源中的各种物理参量,采用一种简便快捷的方法在计算机上对ECR等离子体的磁场位形进行了数值模拟,数值模拟结果表明在共振区磁场强度的值达到最大值,这与实验结果一致。
2.
The hybrid plasma produced from simultaneous ECR and PLA processes combines the characteristics of both ECR plasma and PLA plasma,which could achieve unique effects in thin film deposition.
本论文的研究对象为对固体的脉冲激光烧蚀(Pulsed Laser Ablation,PLA)产生的等离子体(简称PLA等离子体)和对气体的电子回旋共振(ElectronCyclotron Resonance,ECR)微波放电产生的等离子体(简称ECR等离子体),主要通过等离子体发射光谱的测量分析来研究这两类等离子体及它们之间的相互作用,了解其特性和时空演变规律,也为相关的一些技术应用提供参考。
2)  ECR plasma
ECR 等离子体
3)  Microwave ECR plasma
微波ECR等离子体
1.
This system is applied to the measurement of microwave ECR plasma inner parameters and proved to work well.
将该系统应用于微波ECR等离子体参数的测定,经实验测试效果较好。
2.
With these advantages, Microwave ECR plasma finds number of applications in the areas of etching technologies, thin film deposition and plasma source.
微波ECR等离子体还具有无内极放电和放电离子低溅射率的优点,正是由于这些优点,使其在刻蚀技术、薄膜制备技术和离子源等方面得到了广泛应用。
4)  Microwave-ECR Plasma
微波ECR等离子体
5)  ECR plasma source
ECR等离子体源
6)  ECR plasma deposition
ECR等离子体沉积
补充资料:等之
1.同等;等同于。
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