1) alcohol catalytic chemical vapor deposition(ACCVD)
乙醇为碳源的化学气相沉积(ACCVD)
2) chemical vapor deposition silicon carbide
化学气相沉积碳化硅
1.
To realize the super-smooth polishing of chemical vapor deposition silicon carbide(CVD SiC),nano-scratch test is applied to study the critical load for brittle-ductile transition,and its polishing mechanism is analyzed according to the force on an abrasive grain.
为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究。
3) vapo(u)r deposition carbon fiber
化学气相沉积碳纤维
4) carbon-assisted CVD method
碳辅助化学气相沉积法
1.
High-density SiO_x nanowires were fabricated on a large-scale using carbon-assisted CVD method by Fe—Al—O catalyst at 1140℃ in flowing N_2/H_2,N_2 and NH_3 atmospheres.
以N2/H2、N2或NH3为载气,利用碳辅助化学气相沉积法,常压1140℃下在石英衬底上制备了大量直径为20—300nm,长数百微米的非晶SiOx纳米线。
5) SS CVD
单源化学气相沉积
1.
SS CVD Growth of a-b Axis Oriented ZnO Thin Film;
以Zn4(OH)2(O2CCH3)6·2H2O为单一固相有机源,采用单源化学气相沉积法(Singlesourcechemicalvapordeposition,SSCVD)在Si(100)衬底上制备ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)分析ZnO薄膜样品的晶体结构和微观形貌,并用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的锌氧化学计量比进行了分析。
6) SS-CVD
固体源化学气相沉积
补充资料：化学气相沉积碳纤维
分子式：
CAS号：
性质：又称化学气相沉积碳纤维。指特定混合气在高温下热解沉积在催化剂微粒上成长成碳纤维。直径几微米，强度高达其理论值的1/4，模量高达1000GPa，电阻率0.8～1.5×10-4Ω·cm，抗氧化和耐腐蚀性优良。制法是将碳氢化合物的蒸气与铁、镍、硫及其氧化物或盐类微粒等催化剂源和氢氧接触，在1100℃下热解使碳沉积并在催化剂上成长，再经石墨化处理而得，也可制成弹簧状。用于先进复合材料的增强剂和弹簧等。
CAS号：
性质：又称化学气相沉积碳纤维。指特定混合气在高温下热解沉积在催化剂微粒上成长成碳纤维。直径几微米，强度高达其理论值的1/4，模量高达1000GPa，电阻率0.8～1.5×10-4Ω·cm，抗氧化和耐腐蚀性优良。制法是将碳氢化合物的蒸气与铁、镍、硫及其氧化物或盐类微粒等催化剂源和氢氧接触，在1100℃下热解使碳沉积并在催化剂上成长，再经石墨化处理而得，也可制成弹簧状。用于先进复合材料的增强剂和弹簧等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条