1) chemical vapor deposition polymerization
化学气相沉积聚合
1.
A new kind of dimmer of 4-succinyl- paracyclophane(DPX-COCH2CH2COOH) was synthesized,and polymerized by chemical vapor deposition polymerization(CVDP).
合成了一种新的丁酸酰基取代对亚苯基二亚甲基二聚体,用化学气相沉积聚合法制备了聚丁酸酰基取代对亚苯基二亚甲基(PPX-COCH2CH2COOH)膜,采用FTIR、NMR的方法证实了其化学结构,采用元素分析方法测定苯环上丁酸酰基的取代程度为4。
2.
Poly(p-xylylene)(PPX) was prepared by chemical vapor deposition polymerization(CVDP).
采用化学气相沉积聚合(CVDP)的方法制备了聚对亚苯基二亚甲基(PPX)涂层,再通过发烟硫酸的化学表面改性成功地在PPX的芳香环上引入磺酸基团,可作为进一步功能化的反应基团。
2) thermal chemical vapour deposition polymerization(TCVDP)
热解化学气相沉积聚合(TCVDP)
3) vapor deposition polymerization
气相沉积聚合
1.
Recent progress of vapor deposition polymerization(VDP) for the preparation of polyimide films was reviewed.
综述了一种新的制备聚酰亚胺(P I)薄膜的方法——气相沉积聚合(VDP)的研究进展,用此方法制得的聚合物膜具有纯度高、膜厚可控、可实现保形涂敷、可制备难溶难熔聚合物、集聚合与成膜为一体等优点。
4) chemical vapor deposition
化学气相沉积
1.
Study on PPy/UHMWPE fiber prepared by chemical vapor deposition;
化学气相沉积PPy/UHMWPE纤维的研究
2.
Preparation of In_2O_3 nanowires by single-source chemical vapor deposition method;
单源化学气相沉积法制备In_2O_3纳米线
3.
Dielectric properties of aluminum-doped silcion carbide using chemical vapor deposition;
化学气相沉积铝掺杂碳化硅的微波介电特性
5) chemical vapour deposition
化学气相沉积
1.
Preparation of tellurium films with spectral selectivity by chemical vapour deposition method;
化学气相沉积法制备光谱选择性碲膜
2.
Silicon nitride films prepared by helicon wave plasam-enhanced chemical vapour deposition;
螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜
3.
A new glass coating technology to combine the method of ionic pervasion colouration with the technique of chemical vapour deposition was adapted.
将离子渗透着色技术(IPC)和化学气相沉积技术(CVD)加以结合,在浮法玻璃生产线的锡槽内和AO区进行2次镀膜形成复合膜,克服了单一镀膜技术存在的不足。
6) chemical vapor deposition(CVD)
化学气相沉积(CVD)
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条