1) inductive codeposition
诱导共沉积
2) induced codeposition
诱导共沉积
1.
The cyclic voltammogram shows that the codeposition of Ho with Co belongs to induced codeposition mechanism, and the codeposition potential of Ho and Co is more negative than that of Co but positive than that of Ho.
测定循环伏安曲线获知钬钴共沉积的沉积电位较钴单独析出为负而较钬的析出为正 ,属于诱导共沉积类型。
2.
Ni P Y amorphous alloy is obtained by the method of induced codeposition.
报导了以诱导共沉积的方法，制取了非晶结构的Ｎｉ－Ｐ－Ｙ合金材料；并通过正电子湮没技术对该材料的缺陷作了研究；指出缺陷是该类材料结构发生变化及性能改善的根本原因。
3.
This paper measures parameter of the electrodeposition process, and discovers the Cu-In-Se thin films are induced codeposition.
采用电化学沉积方法在钼箔上制备Cu-Se、In-Se和Cu-In-Se薄膜,对电沉积的工艺参数进行了测试,发现Cu-In-Se是一种诱导共沉积,虽然沉积膜不具备化学计量比,但具有一定的光电性能。
3) induced-codeposition
诱导共沉积
1.
In Situ Surface Raman Spectroscopy Study on Fe－Mo Alloy Induced-codeposition;
现场表面拉曼光谱研究Fe-Mo合金诱导共沉积
5) electric-field-induced deposition
电诱导沉积
6) induction-chemical deposition method
诱导化学沉积法
补充资料：激光诱导化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条