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1)  electron beam induced deposition
电子束诱导沉积
1.
It utilizes the electron beam induced deposition of nanocarbon in an ordinary scanning electron microscope.
文中利用普通扫描电子显微镜中出现的电子束诱导沉积纳米碳基本现象 ,提出和发展了一种无需光刻胶和额外掩模的亚微米图形化技术。
2)  electric-field-induced deposition
电诱导沉积
3)  ion beam induced deposition
离子束诱发沉积
4)  electron beam deposition
电子束沉积
5)  Induced deposition
诱导沉积
6)  pulsed electron beam deposition
脉冲电子束沉积
1.
33 MnO_3 grain films have been grown by pulsed electron beam deposition technology,and their magnetic and electronic transport properties investigated in detail.
采用脉冲电子束沉积技术,在Si(100)单晶衬底上沉积庞磁电阻La0·67Ca0·33MnO3颗粒薄膜,并对它的磁学性能和电学输运性能进行了表征。
2.
La-Sr-Cu-O thin films on Si(100) substrates have been grown by pulsed electron beam deposition technique.
采用脉冲电子束沉积(PED)技术在Si(100)衬底上生长La_Sr_Cu_O薄膜,在750℃生长温度下获得具有有序纳米结构的表面形貌。
补充资料:电子束诱导电流


电子束诱导电流
electron beam induced current method

电子束诱导电流eleetron beam induced eurrentmethod高能电子束照射到有势垒的半导体上所产生的电流。电子束诱导电流的形成过程是:当高能电子束与半导体相互作用时,由于碰撞电离,在轰击区会产生大量的电子一空穴对;在势垒区两边一个扩散长度内的电子或空穴就能扩散到势垒区而被势垒电场所分开,在外电路上输出一个比电子束流大得多的诱导电流。电子束诱导电流图象是扫描电子显微镜的一个重要工作模式,它的主要应用有:①PN结性能的研究与鉴定;②半导体中的原生缺陷与二次缺陷的观察与研究;③半导体器件与集成电路的失效分析;④微区域半导体材料特性参数,如扩散长度、少子寿命以及深能级等的测量与分析。(李成基)
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参考词条