1) EB-PVD
电子束物理气相沉积
1.
The effect of high temperature rapid annealing on preparation of high silicon electrical steel by EB-PVD;
高温快速退火对电子束物理气相沉积制备高硅硅钢片的影响
2.
Oxidation Behavior at 1000℃ for Nanocrystalline Ni-20Cr-0.6Al Alloy Deposited by EB-PVD;
电子束物理气相沉积制备纳米晶Ni-20Cr-0.6Al合金在1000℃的氧化行为
3.
Research on Ultrathin High Temperature Structure Materials Achieved by EB-PVD;
电子束物理气相沉积工艺制备超薄高温结构材料的研究
2) electron beam physical vapor deposition
电子束物理气相沉积
1.
The high temperature oxidation behavior of oxide dispersion strengthened Ni-based superalloy prepared by electron beam physical vapor deposition was investigated.
采用电子束物理气相沉积技术制备了微晶氧化物弥散增强Ni基高温合金,并研究了该合金的高温氧化行为。
2.
3 mm thickness was prepared by technique of electron beam physical vapor deposition.
采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备出厚度为0。
3.
Y 2O 3 partially stabilized ZrO 2 ceramic top coat was deposited on NiCrAlY bond coat by electron beam physical vapor deposition (EB PVD).
采用电子束物理气相沉积方法 (EB- PVD)在 Ni Cr Al Y粘结层上沉积 Y2 O3部分稳定的 Zr O2 陶瓷层。
3) electron beam physical vapor deposition(EB-PVD)
电子束物理气相沉积
1.
NiCrAl/Ni3Al microlaminate composites were fabricated by electron beam physical vapor deposition(EB-PVD).
利用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)制备NiCrAl/Ni3Al微叠层复合材料,对其在制备态和时效态不同温度下的力学性能进行试验,考察不同时效温度对材料拉伸性能的影响。
4) electron beam physical vapor deposition (EB-PVD)
电子束物理气相沉积
1.
The influence of surface vertical cracks in YSZ coating on the failure mechanism of thermal barrier coatings prepared by electron beam physical vapor deposition (EB-PVD) during thermal cycling was studied.
对电子束物理气相沉积(EB-PVD)双层结构热障涂层在热循环过程中形成的陶瓷层垂直裂纹对涂层失效模式的影响进行了研究。
5) electron beam-physical vapor deposition
电子束物理气相沉积
1.
TiAl-based alloys sheet of 150 mm×100 mm in size were successfully fabricated by electron beam-physical vapor deposition (EB-PVD) process.
采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术,成功制备了尺寸为150mm×100mm的TiAl基合金薄板,并利用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等测试手段,对真空退火或热压前后试样的显微形貌、物相组成等进行了分析。
2.
Two kinds of thermal barrier coatings with NiCoCrAlY bond coatings deposited by electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD) and high velocity oxy-fuel thermal spraying(HVOF),respectively,as well as 8wt%Y2O3-ZrO2 ceramic layers deposited in one batch by EB-PVD were prepared on near-α titanium alloys.
在TC11钛合金上制备两种以NiCoCrAlY为粘结层,8wt%Y2O3-ZrO2(YSZ)为陶瓷层的热障涂层,粘结层制备技术分别为电子束物理气相沉积(EB-PVD)和超音速火焰喷涂(HVOF),陶瓷层由EB-PVD同炉沉积。
6) electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD)
电子束物理气相沉积(EB-PVD)
补充资料：物理气相外延
物理气相外延
physical vapour deposition
wullq一xlQng ChenJI物理气相沉积(physieal vapor deposition) 在真空条件下将涂层材料转变成蒸气态再沉积在基材表面的表面防护方法。 物理气相沉积(P VD)包括真空蒸发镀、真空溅射镀、离子镀和束流沉积技术等。 (1)真空蒸发镀。使膜材蒸发逸出并沉积于基材表面。到达基材表面的原子能量为0.1~leV，主要是无碰撞直线传输。 (2)真空溅射镀。利用荷能粒子轰击靶材，引起表面原子逸出并沉积于基材表面。由离子枪轰击靶材产生溅射称为离子束溅射。由辉光放电等离子体提供正离子，轰击高负电位靶材产生的溅射则称为等离子体溅射。对等离子体施加磁约束的磁控溅射技术具有高速和低温两大特点。向沉积室引人反应气体使之与溅出的靶材原子发生化学反应形成化合物薄膜称为反应溅射。对绝缘体靶材须采用射频溅射，常用频率为13.56MHz。 (3)离子镀。是在上述两种镀膜技术基础上发展起来的技术。该技术可使粒子能量提高到10~SO0ev，显著改善膜的附着强度。 (4)束流沉积技术。是利用离化粒子流作为蒸镀膜物质，可在较低温度下形成具有良好特性的薄膜。既可以在基材表面先用普通沉积技术沉积金属或合金薄膜，然后再用几个keV到lokeV离子束轰击使之形成亚稳态组织，也可以边沉积边用高能离子束轰击。PVD技术广泛用于制备光学、半导体器件、耐磨耐蚀刀具、工具、机械零件以及装饰涂层等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条