1) ion assisted physical vapor deposition
离子束辅助物理气相沉积
2) electron beam assistant physics vapor deposition (EBPVD)
电子束辅助物理气相沉积
3) PAPVD coatings
等离子体辅助物理、化学气相沉积
4) ion beam assisted deposition(IBAD)
离子束辅助沉积
1.
The microstructure and morphology of the lead telluride optical thin films prepared by ion beam assisted deposition(IBAD) were observed by atomic force microscopy(AFM).
利用原子力显微镜(AFM)研究了离子束辅助沉积碲化铅(PbTe)薄膜的微观结构和表面形貌。
2.
Hf films were synthesized by ion beam assisted deposition(IBAD).
采用离子束辅助沉积方法 (IBAD)在Si(111)衬底上沉积了铪薄膜。
5) ion beam assisted deposition
离子束辅助沉积
1.
Amorphous and metastable crystalline phases formed by ion beam assisted deposition in immiscible systems;
离子束辅助沉积引发互不固溶系非晶相和亚稳晶相形成
2.
Preparation of high power laser films based on ion beam assisted deposition;
离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究
3.
Electron emission suppression characteristic of molybdenum grid coated with Hf by ion beam assisted deposition;
离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射性能研究
6) ion beam assisted deposition (IBAD)
离子束辅助沉积
1.
In this work, we studied the microstructure, surface morphology, annealing performance, composition and mechanical properties of the Er-doped A1203 photonic thin films prepared by Ion Beam Assisted Deposition (IBAD) method.
本文通过不同的方法（TEM、AFM、SEM、XRD、EDX）研究了用离子束辅助沉积的方法制备的掺Er光波导Al_2O_3（和掺Er_2O_(3-) Al_2O_3、不掺Er-Al_2O_3）薄膜的微观结构、表面形貌、退火特性、成分以及力学性能等，试图对Al_2O_3薄膜从不同方面作以评价，为改进制备光波导镀膜方法提供重要的信息。
补充资料：物理气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条