1) Polysilicon etching
多晶硅清洗
2) silicon wafer cleaning
硅片清洗
1.
At the same time, the paper pointed out the developing tendency of the silicon wafer cleaning process.
介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术,指出了硅片清洗工艺的发展趋势。
3) wafer cleaning
硅清洗
4) silicon slice detergent
硅片清洗剂
5) multi-procedure cleaning
多步清洗
补充资料：多晶
分子式：
CAS号：
性质：多晶(体)是众多取向机遇的单晶(体)的集合。多晶与单晶内部均以点阵式的周期性结构为其基础，对同一品种晶体来说，两者本质相同。两者不同处在于单晶是各向异性的，多晶则是各向同性的。在摄取多晶衍射图或进行衍射计数时，多晶样亦有其特色。多晶体中当晶粒粒度较小时，晶粒难于直观呈现晶面、晶棱等形象，样品清晰度差，呈散射光。这种场合的多晶亦常称作粉晶(powder crystal)。
CAS号：
性质：多晶(体)是众多取向机遇的单晶(体)的集合。多晶与单晶内部均以点阵式的周期性结构为其基础，对同一品种晶体来说，两者本质相同。两者不同处在于单晶是各向异性的，多晶则是各向同性的。在摄取多晶衍射图或进行衍射计数时，多晶样亦有其特色。多晶体中当晶粒粒度较小时，晶粒难于直观呈现晶面、晶棱等形象，样品清晰度差，呈散射光。这种场合的多晶亦常称作粉晶(powder crystal)。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条