2) electrostatic spray assisted vapor deposition (ESAVD)
静电辅助的气溶胶化学气相沉积
1.
Y2O3 thin films were successfully deposited onto Si (100) substrates by the electrostatic spray assisted vapor deposition (ESAVD) method.
采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征。
4) carbon-assisted CVD method
碳辅助化学气相沉积法
1.
High-density SiO_x nanowires were fabricated on a large-scale using carbon-assisted CVD method by Fe—Al—O catalyst at 1140℃ in flowing N_2/H_2,N_2 and NH_3 atmospheres.
以N2/H2、N2或NH3为载气,利用碳辅助化学气相沉积法,常压1140℃下在石英衬底上制备了大量直径为20—300nm,长数百微米的非晶SiOx纳米线。
5) miniature EACVD(electron-assisted chemical vapor deposite) system
电子辅助化学气相沉积(EACVD)小型化系统
6) EA-HFCVD
电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)
补充资料：静电
分子式：
CAS号：
性质： 宏观范围内分离开来的相对静止的正电荷和负电荷。静电技术可用于除尘、喷漆、植绒、复印、分选等生产过程。在工艺过程中和人的行动中，可能产生和积累有害的静电。高分子材料容易产生和积累危险的静电。固体物料的大面积摩擦、高强度的接触-分离、强力挤出、粉碎和研磨；粉体物料的过滤、筛分、输送、搅拌和干燥、高速输送；液体物料的过滤、高速输送、喷射和冲刷；气体和蒸气的高速喷射等工艺过程都能产生强烈静电。工艺过程中所产生静电的电压可达数万至数十万伏。由于静电放电火花、静电力、静电场场强的作用，工艺过程中的静电可能引起爆炸和火灾，可能给人以电击，还可能妨碍生产和降低产品质量。
CAS号：
性质： 宏观范围内分离开来的相对静止的正电荷和负电荷。静电技术可用于除尘、喷漆、植绒、复印、分选等生产过程。在工艺过程中和人的行动中，可能产生和积累有害的静电。高分子材料容易产生和积累危险的静电。固体物料的大面积摩擦、高强度的接触-分离、强力挤出、粉碎和研磨；粉体物料的过滤、筛分、输送、搅拌和干燥、高速输送；液体物料的过滤、高速输送、喷射和冲刷；气体和蒸气的高速喷射等工艺过程都能产生强烈静电。工艺过程中所产生静电的电压可达数万至数十万伏。由于静电放电火花、静电力、静电场场强的作用，工艺过程中的静电可能引起爆炸和火灾，可能给人以电击，还可能妨碍生产和降低产品质量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条