1) RFGDPECVD
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积
1.
Preparation technique and performances characterization of diamond-like carbon films by RFGDPECVD method
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
2) radio frequency plasma chemical vapor deposition
射频等离子体辅助化学气相沉积
3) microwave plasma enhanced chemical vapor deposition
微波等离子体辅助化学气相沉积
4) PAPVD coatings
等离子体辅助物理、化学气相沉积
5) plasma enhanced chemical vapor deposition
等离子体辅助化学气相沉积
1.
Diamond-like carbon (DLC) films were prepared on Si(100) substrates by combining plasma source ion implantation and electron cyclotron resonance microwave plasma enhanced chemical vapor deposition technique.
采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在Si衬底上制备出子性能良好的类金剐石膜。
6) plasma assisted MOCVD
等离子体辅助金属有机化学气相沉积
1.
We present the results of UV photodetectors fabricated on ZnO epitaxial films grown on c-plane sapphiresubstrates by plasma assisted MOCVD.
利用新型的等离子体辅助金属有机化学气相沉积(P-MOCVD)系统在蓝宝石、硅等衬底上生长出具有单一c轴取向、高阻的ZnO薄膜,利用添加的等离子体发生装置,进行氮掺杂获得高阻ZnO薄膜。
补充资料：射频
射频
物理学术语。介于声波和红外线之间的波的频率。用于MR研究的射频常在兆赫兹(MHz)范围内。磁共振成像中，必须使用射频脉冲选择性激励特定层面的质子，以产生MR信号。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条