1) Co-N thin films
Co-N薄膜
1.
Co-N thin films are mainly used in the field of high-density magnetic recording.
本论文以Ar和N2为放电气体,用直流磁控溅射方法在Si(111)基底上制备了Co-N薄膜,并对其进行了一系列表征:用X射线衍射(XRD)和选区电子衍射(SAED)对薄膜的结构进行了分析;用扫描电镜(SEM)确定了薄膜厚度并获得了薄膜的表面形貌;用超导量子干涉仪(SQUIDS)对薄膜的磁性进行了分析。
2) (Fe,Co)-N thin film
(Fe,Co)-N薄膜
3) Co/Co-Fe thin film
Co/Co-Fe薄膜
5) Co-P thin film
Co-P薄膜
1.
A study on magnetic properties and application of electroless Co-P thin films;
化学镀Co-P薄膜的磁性及研究
6) Co-La film
Co-La薄膜
1.
Co-La films are prepared by potentiostatic deposition in aqueous solution using glycine as complexing agent.
在氨基乙酸为络合剂的水溶液中采用恒电位法沉积出Co-La薄膜,分别研究了pH、沉积电位对镀层结构的影响。
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条