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1)  Fe-N films
Fe-N 薄膜
1.
The effect of nitrogen partial pressure on the structures and magnetic properties of Fe-N films was investigat.
Fe-N 薄膜因其具有高饱和磁化强度、低矫顽力,有望获得较高的微波磁导率,而在集成化微磁器件、抗电磁干扰以及新型雷达波吸收材料研究中受到广泛和高度的重视。
2.
The effects of preparation conditions on the structures andmagnetic properties of Fe-N films and the relation between the saturationmagnetization and film thickness were investigated in detail.
采用射频磁控溅射法制备了具有高饱和磁化强度的 Fe-N 薄膜
2)  Fe-N thin films
Fe-N薄膜
1.
Effects of substrate temperature on structure,morphology and magnetic properties of Fe-N thin films;
衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响
2.
Effect of bias voltage on the structure and properties of Fe-N thin films prepared by direction current magnetron sputtering;
偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响
3.
The Fe-N thin films were deposited on single crystal NaCl(100) and glass substrates via DC magnetron sputtering with an Ar/N2 gas mixture(N2/(Ar+N2)=10%) as the discharging gas.
采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品。
3)  Fe-N-O thin films
Fe-N-O薄膜
4)  Fe-Ti-N film
Fe-Ti-N薄膜
5)  Fe Ta N films
Fe-Ta-N薄膜
6)  (Fe,Co)-N thin film
(Fe,Co)-N薄膜
补充资料:Fe-C-O和Fe-H-O系平衡图
      铁及其氧化物与CO-CO2或 H2-H2O 混合气体达到平衡时的气相组成与温度的关系图(图1)。它是由实验测得的数据绘制的,是冶金过程物理化学常用的一种优势区图。图中三条线分别代表下列三个反应的平衡气相组成:
  
570℃以下:Fe3O4+4CO3Fe+4CO2 (1)


  
570℃以上:Fe3O4+CO3FeO+CO2 (2)


  
FeO+COFe+CO2 (3)


  3Fe2O3+CO─→2Fe3O4+CO2反应达平衡时的一氧化碳分压值太小,几乎与横坐标重合,图中未标出。如果实际气相组成pco/(pco+pco2)高于平衡组成,则反应将向右进行,此时反应式等号右边的固相是稳定的,左边的固相不稳定。图中每条线上方的区域就是该反应式右边固体的稳定存在区。这三条线将整个图划分为三个区域,即Fe、FeO、Fe3O4的稳定存在区。三条线交点是四相(Fe、FeO、Fe3O4及气相)共存点(见相图)。
  
  
  在钢铁冶炼过程中,常利用此图来确定在给定温度和气相组成条件下能够稳定存在的固相。此图还明确表明铁的各级氧化物是逐级转化的(见Fe-O 状态图)。
  
  由图1可见,在虚线(Fe-H-O平衡)与实线(Fe-C-O平衡)交点温度(820℃)以上,H2比CO具有更强的还原能力;在820℃以下,则正相反。
  
  CO对铁还有渗碳作用。当气体中的比值pco/(pco+pCO2)超过反应(4)的平衡组成时,会发生铁的渗碳反应:
  
2CO(气)─→CO2(气)+[C] (4)

[C]表示溶解于铁中的碳。图2绘出了一系列 [C]含量下渗碳反应达到平衡时的气相组成与温度的关系曲线。此图直接示出在给定温度和[C]含量的情况下,气相对铁是渗碳还是脱碳。这类问题在钢的热处理时经常遇到。FeO是非化学计量化合物(见Fe-O 状态图),其中氧含量与其平衡气相组成的关系也在图2中绘出。
  

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