3) lithography model
光刻模型
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条
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3) lithography model
光刻模型
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号: 性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。 说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
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