1) Chemical Nickel-plating and its Application
化学镀镍及其应用
2) Colloid Chemistry and its Applications
胶体化学及其应用
3) Combinatorial Chemistry and Its Application
组合化学及其应用
5) electroless nickel plating
化学镀镍
1.
Study on lead-and cadmium-free composite additive for electroless nickel plating;
无铅无镉化学镀镍复合添加剂的研究
2.
Study on electroless nickel plating on ceramic powder and it’s performance;
陶瓷粉化学镀镍及其性能研究
6) Electroless nickel
化学镀镍
1.
Hydrogen permeation measurements for electroless nickel plating process;
化学镀镍的渗氢测量(英文)
2.
Applications of electroless nickel in high technological field;
化学镀镍在高科技领域中的应用
3.
Wafer bumping by electroless nickel and stencil printing;
化学镀镍、模版印刷法制备倒扣芯片焊料凸点
补充资料:化学镀
分子式:
CAS号:
性质: 又称非电镀。化学镀是利用合适的还原剂使溶液中的金属离子有选择地在催化剂活化的表面上还原析出成金属镀层的一种化学处理方法。在化学镀中,溶液内的金属离子是依靠得到所需的电子而还原成相应的金属。化学镀溶液的成分包括金属盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、pH调节剂、稳定剂、加速剂、润湿剂和光亮剂等。化学镀液中采用的还原剂有次磷酸盐、甲醛、肼、硼氢化物、氨基硼烷和它们的某些衍生物等。与电镀相比,化学镀具有镀层厚度均匀,针孔少,不需要直流电源设备,能在任何外形复杂的镀件上获得均匀的镀层,可在金属、司卜金属、半导体等各种不同基材上镀覆等特点。目前,化学镀镍、铜、银、金、钴、钯、铂、金、锡,以及化学镀合金和化学复合镀层等在工业生产中已被采用。化学镀是目前国内外发展最为迅速的表面处理工艺之一。
CAS号:
性质: 又称非电镀。化学镀是利用合适的还原剂使溶液中的金属离子有选择地在催化剂活化的表面上还原析出成金属镀层的一种化学处理方法。在化学镀中,溶液内的金属离子是依靠得到所需的电子而还原成相应的金属。化学镀溶液的成分包括金属盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、pH调节剂、稳定剂、加速剂、润湿剂和光亮剂等。化学镀液中采用的还原剂有次磷酸盐、甲醛、肼、硼氢化物、氨基硼烷和它们的某些衍生物等。与电镀相比,化学镀具有镀层厚度均匀,针孔少,不需要直流电源设备,能在任何外形复杂的镀件上获得均匀的镀层,可在金属、司卜金属、半导体等各种不同基材上镀覆等特点。目前,化学镀镍、铜、银、金、钴、钯、铂、金、锡,以及化学镀合金和化学复合镀层等在工业生产中已被采用。化学镀是目前国内外发展最为迅速的表面处理工艺之一。
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参考词条