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1)  ion beam scanning
离子束扫描
2)  scanning ion beam etch
扫描离子束刻蚀
3)  Scanning electron beam
扫描电子束
4)  electron beam scan
电子束扫描
1.
A new current generating method for electron beam scan;
一种新的电子束扫描电流产生方法
2.
This paper carries on the three-dimensional static electromagnetic field analysis on the electron beam scanning deflection coil with multi pole shoe structure.
本文应用有限元数值分析软件AN-SYS对多极靴结构的电子束扫描偏转线圈进行了三维静态电磁场分析,通过分析得到不同极靴结构的线圈电磁场的分布结果,并对部分计算结果进行试验验证。
5)  electron beam scanning
电子束扫描
1.
Experimental studies on the domain inversion in LiNbO 3 crystal by electron beam scanning were performed.
本文对用电子束扫描LiNbO3晶体的负畴面实现畴反转进行了实验研究。
6)  scanning electron beam brazing(SEBB)
扫描电子束钎焊
1.
According to brazing characteristics of the thin tube-to-plate structure of stainless steel,a three-dimensional model for finite element analysis of scanning electron beam brazing(SEBB) temperature field was established.
根据不锈钢毛细管板结构的钎焊特点,建立了扫描电子束钎焊温度场三维有限元分析模型。
补充资料:离子束刻蚀

离子束刻蚀以离子束为刻饰手段达到刻饰目的的技术,其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。离子束最小直径约10nm,离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下,最少的达到10nm,获得最小线宽12nm的加工结果。相比电子与固体相互作用,离子在固体中的散射效应较小,并能以较快的直写速度进行小于50nm的刻饰,故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入,甚至无显影刻蚀,直接制造各种纳米器件结构。但是,在离子束加工过程中,损伤问题比较突出,且离子束加工精度还不容易控制,控制精度也不够高。

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参考词条