1) intercrystalline barrier
晶间势垒
2) grain boundary barrier
晶界势垒
1.
Study on the UV photo-sensitive characteristic and grain boundary barrier of ZnO thin films
ZnO薄膜紫外光敏特性及晶界势垒的研究
2.
The low B-value of the grains and insignificant grain boundary barrier give a good linear resistance-temperature characteristic of the composite within a temperature range of -20￣250℃.
由于复合材料的晶粒具有极小的Ｂ值而晶界势垒也极小，使得该复合材料的电阻－温度特性呈现出良好的线性特征。
3.
A new interpretation for the origin the grain boundary barrier is oxide semiconductorceramics is proposed,It is suggested by the authors that the barrier originates from the dif-fusion of excess oxygen in grain boundaries during sintering.
提出了一个关于氧化物半导瓷晶界势垒起源的新观点，认为晶界势垒起源于烧结过程中外界氧在晶界中的扩散，与材料的结构、化学缺陷、掺杂、外界气氛、烧结工艺、组成状态等有密切关系，并用此理论解释了许多实验现象。
3) grain-boundary barrier
晶界势垒
1.
It is believed that the grain-boundary barrier of the thin.
结果表明,适当的掺杂量可以改善CdTe薄膜的结晶性能,降低晶界势垒高度,提高其导电性能。
2.
The results show that the decomposition accompanying with oxidation is useful forincreasing the surface state density and the height of grain-boundary barrier, and therefore improves the nonlinear property of TiO_2 capacitor.
结果发现，在晶界处发生的热分解氧化反应能增加界面态密度，提高晶界势垒高度，从而改善ＴｉＯ２电容压敏电阻器的非线性性能。
4) crystal barrier
晶体势垒
5) central barrier
中间势垒层
6) grain-boundary barrier model
晶界势垒模型
1.
The carrier transport characteristics of the InN thin films have been explained successfully on the basis of a grain-boundary barrier model, where the accumulation of holes at the grain boundaries has been found to play a key role.
在晶界势垒模型的基础上 ,发现InN薄膜的电导特性取决于材料内部的晶界势垒高度 ,载流子输运特性是由于空穴在晶界处的积累决定的 。
补充资料：pn结势垒（barrierofp-njunction）
pn结势垒（barrierofp-njunction）
pn结的空间电荷区中，存在由n边指向p边的自建电场。因此，自然形成n区高于p区的电势差Vd。相应的电子势能之差即能带的弯曲量qVd称为pn结的势垒高度。pn结的p区和n区的多数载流子运动时必须越过势垒才能到达对方区域，载流子的能量低于势垒高度，就被势垒阻挡而不能前进，这个垫垒叫做pn结势垒。pn结的势垒高度与两边半导体中的杂质浓度及其分布、温度以及半导体材料的禁带宽度Eg有关。除pn结势垒外，还有金属与半导体接触的接触势垒（肖特基势垒）、半导体表面形成的表面势垒等。势垒高度受外加电场的影响，当外加电场削弱势垒区中电场时，势垒降低，载流子容易通过；外加电场加强势垒区的电场时，势垒高度升高，载流子不易通过。利用pn结势垒这一特性可制成整流、检波等多种半导体器件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条