1) reactive sputter etching system
反应性溅镀蚀刻系统
2) reactive sputtering system
反应性溅镀系统
3) reactive ion beam etching system/RIBE system
反应性离子束蚀刻系统
4) reactive ion etching system/RIE system
反应性离子蚀刻系统/RIE 系统
5) hexode type reactive ion etching system
六角柱型反应性离子蚀刻系统
6) magnetron enhanced reactive ion etaching system
磁控管增强型反应性离子蚀刻系统
补充资料：蚀刻
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
分子量：
CAS号：
性质：用氢氟酸侵蚀玻璃的过程。采用浓度不同的氢氟酸，可以获得不同程度的蚀刻。一般是半透明呈雾状。用于刻划温度计、滴定管、量筒、量管等计量器上的刻度以及玻璃上的花纹图案等，也用于制造覆霜电灯泡（俗名磨砂灯泡）。用氢氟酸处理玻璃表面使成毛面，特别称毛面蚀刻（frosting)。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条