1) medium energy ion implanter
中能量离子注入机
2) low energy ion implanter
低能量离子注入机
3) Multiple-energy implantation
叠加能量离子注入
4) ion implanter
离子注入机
1.
Particle Contamination and System Reformation in End Station of Ion Implanter;
离子注入机靶室尘埃污染与系统改造
2.
Vertical scanner is the supporting part of a series process ion implanter, which transfer high speed movement from outside of the chamber to the target inside.
垂直扫描机构是单晶片离子注入机靶盘的支撑部件,起着将高速直线运动从靶室外传递到靶盘的作用。
3.
Introduced the configuration of typical ion implanter,analyzed the importance of the implantation mechanical scanning technology.
简单介绍了典型离子注入机的组成,分析了离子注入机中扫描技术的重要性。
5) Implanter
离子注入机
1.
Seamless Transferability of Doping Processes Between the Ⅶsta Platform of Ion Implanters;
离子注入机Ⅶ Sta平台向掺杂工艺的无缝可变换性(英文)
2.
The first accelerator-TEM interface system in China has been established at Wuhan University,which consists of a Hitachi H800 TEM,a 200 kV ion implanter and a 2×1.
7 MV串列加速器、1台200 kV离子注入机和1台200 kV透射电镜组成,通过自行设计的传输系统实现联机。
6) medium current ion implanter
中电流离子注入机
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条