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1)  high energy ion implanter
高能量离子值入机
2)  low energy ion implanter
低能量离子注入机
3)  medium energy ion implanter
中能量离子注入机
4)  High energy ion implantation
高能离子注入
5)  incident ion's energy
入射离子能量
6)  high dosage ion implantation
高剂量离子注入
补充资料:离子注入(ionimplantation)
离子注入(ionimplantation)

用离子加速器将各种离子注入半导体材料,从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术,称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用,是半导体器件工艺的最主要技术之一。

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