1) multi function ion implantation
多功能离子注入
2) pouring of polyatomic element
多元素离子注入
4) low energy ion implantation
低能离子注入
1.
Modification of poly(pyrrolyl methine) thin film by low energy ion implantation;
低能离子注入对聚吡咯甲烯的改性
2.
Three methods are introduced including Tl + and Ir + doping, MBE growth of P +layer and B +, In + low energy ion implantation.
讨论了将PtSi红外探测器截止波长延长的理论基础 ,并介绍了采用在衬底掺入Tl+和Ir+,MBE生长P+层以及低能离子注入B+,In+来延长PtSi红外探测器截止波长的三种方
6) Low energy iron ion-beam implant
低能铁离子注入
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条