1) secondary ion mass spectrometry (SIMS)
二次离子质谱测定法
2) secondary ion mass spectrometry (SIMS)
二次离子质谱法
3) dynamic SIMS
动态二次离子质谱法
4) static SIMS
静态二次离子质谱法
5) secondary ion mass spectrometry
二次离子质谱
1.
The dopant profiles in silicon sample implanted by BF 2 are measured using secondary ion mass spectrometry (SIMS) and spreading resistance probe (SRP) techniques.
利用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量了硅中注入硼的深度分布 。
6) Secondary Ion Mass Spectroscopy
二次离子质谱(SIMS)
补充资料：二次离子质谱
分子式：
CAS号：
性质：将一束离子溅射表面，用质谱仪分析所产生的二次离子，以测定表面成分，有较高的灵敏度。此质谱称为二次离子质谱。
CAS号：
性质：将一束离子溅射表面，用质谱仪分析所产生的二次离子，以测定表面成分，有较高的灵敏度。此质谱称为二次离子质谱。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条