1) photoblank
掩模底版
2) antistatic mask blank
防静电掩模底版
3) mask
[英][mɑ:sk] [美][mæsk]
掩模版
1.
How to Improve the Life of Mask;
如何有效提高光刻掩模版的使用寿命
2.
The present and the problem of the maskless lithography wereintroduced.
研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
3.
It has a large impact both to the mask lifetime and the wafer yield of the semiconductor production.
目前晶圆厂主要采用改善掩模版工作环境和存储环境两种方式解决雾状缺陷,通过对这两种方案的对比表明,对掩模版的存储环境进行改善,可有效降低掩模版雾状缺陷的发生频率,提高掩模版的使用寿命,并且整体费用较低,是目前比较可行的方案,掩模版的无S化工艺也是未来发展方向。
4) master reticle
掩模原版
5) phase mask
相位掩模版
1.
Impact of phase masks stitching errors on the reflectivity of the chirped fiber Bragg grating;
相位掩模版接缝相差对光栅反射峰的影响
6) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光学掩模版
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条