1) mask
[英][mɑ:sk] [美][mæsk]
掩膜版
1.
In this paper,the design of micro mask was discussed in sensor terms of the improving the characteristic of the micro sensor,and the measurement of micro pressure wa.
本工作主要从提高传感器的性能角度来分析掩膜版设计中的重要问题,并对设计制作的传感器进行静态测试,取得了满意的实验结果。
2.
Using the mixture of the nematic LC and polymer monomer which can take placephase separation under UV-radiation, the sandwich LC cell is fabricated by the mask andphotoetching method.
采用向列相液晶和在光照下可发牛相分离的预聚物单体组成的混合物，分别应用掩膜版法和光刻电极图形法制作的夹层结构液晶盒，在个同条件Ｆ经紫外光辐照发生相分离，形成聚合物栅和墙结构。
2) peelicle
掩模版保护膜
3) Mask
[英][mɑ:sk] [美][mæsk]
掩膜
1.
Research on thick photoresist mask electroplating process in micro-fabrication;
微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究
2.
Micro Multiple Holes Produced by Through-mask Electrochemical Machining In Metal Sheets;
金属薄板微小群孔掩膜电解加工技术研究
3.
X Ray Mask in LIGA Process;
LIGA 技术中的 X 射线掩膜
4) masking
[英]['mɑ:skiŋ] [美]['mæskɪŋ]
掩膜
1.
Research of Aided Masking Technique in Videcomp;
视频合成中辅助掩膜技术的研究
2.
In view of the deficiency of the traditional man-made masking method, a computer-aided masking algorithm is presented.
针对视频合成中采用的人工掩膜方式的不足，提出一种计算机辅助掩膜生成算 法。
3.
The method includes three steps,namely,data-inspection-evaluation,interference deletion(or masking technique),the delineation and grading of remote sensing anomaly.
该方法包括数据检查评价、干扰去除(或称掩膜)、遥感异常的圈定及分级3部分。
5) mask layer
掩膜
1.
It may used to be mask layer in the super-resolution optical disks.
Ge Sb Te是一种良好的相变光存储材料 ,在超分辨光盘中可作为掩膜。
6) mask
[英][mɑ:sk] [美][mæsk]
掩模版
1.
How to Improve the Life of Mask;
如何有效提高光刻掩模版的使用寿命
2.
The present and the problem of the maskless lithography wereintroduced.
研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。
3.
It has a large impact both to the mask lifetime and the wafer yield of the semiconductor production.
目前晶圆厂主要采用改善掩模版工作环境和存储环境两种方式解决雾状缺陷,通过对这两种方案的对比表明,对掩模版的存储环境进行改善,可有效降低掩模版雾状缺陷的发生频率,提高掩模版的使用寿命,并且整体费用较低,是目前比较可行的方案,掩模版的无S化工艺也是未来发展方向。
补充资料：掩模版保护膜
分子式：
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号：
性质：一种很薄的光学透明膜，一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上，由框架来支承，并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封，防止沾污物，减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条