1) double-surface transistor
双面晶体(三极)管
2) tandem transistor
双晶体三极管
3) planar bipolar transistor
平面双极晶体管
4) bipolar junction transistor
双极面结型晶体管
5) Bipolar transistors
双极晶体管
1.
The peudo heterojunction bipolar transistor(PHBT) is a homojunction bipolar transistorhaving a moderately doped emitter and a heavily doped base, providing a bandgap profile similar toactual heterojunction bipolar transistors (HBT).
具有重掺杂基区和中等掺杂发射区的硅赝异质结双极晶体管（ＰＨＢＴ），其能带结构类似于真实异质结双极晶体管（ＨＢＴ）的能带结构，本文研究了硅赝异质结双极晶体管的电流增益，截止频率和基区电阻等电学参数性能及其与温度的关系，并指出了硅赝异质结双极晶体管在低温下应用的潜力。
2.
The apparent bandgap narrowing in bipolar transistors with ion implanted and epitaxial Si 0.
这种方法从双极晶体管的集电极电流公式出发 ,利用 VBE做自变量 ,在室温和液氮温度下测量器件的Gum mel图 ,选取 ln IC随 VBE变化最为线性的一部分读出 VBE及相应的 IC数值 ,获得两条 VBE- ln IC直线 ,通过求解两条直线的交点可以计算出基区的禁带变窄量ΔEG。
6) Bipolar transistor
双极晶体管
1.
A photocurrent compensation method of bipolar transistors under high dose rate radiation and its experimental research;
双极晶体管瞬态辐射光电流分流补偿法及其实验研究
2.
The circuit is constructed by a operational amplifier and bipolar transistor current mirrors with multiple outputs.
该电路由一集成运算放大器及多端输出的双极晶体管电流镜构成。
3.
The main structure and key performance parameters of the bipolar transistor were studied and designed,it was taped out and tested.
对双极晶体管结构和关键性能参数进行了研究和设计,并进行了流片测试。
补充资料：光晶体三极管
由双极型晶体管或场效应晶体管等三端器件构成的光电器件。光在这类器件的有源区内被吸收，产生光生载流子，通过内部电放大机构，产生光电流增益。光晶体三极管三端工作，故容易实现电控或电同步。光晶体三极管可分为两类：双极型光晶体管、场效应光晶体管及其相关器件。
双极型光晶体管 双极型光晶体管从结构上分为同质型和异质型两种。图为异质结光晶体管能带图。光在基区-收集区吸收，产生的空穴（多子）在基区积累,使发射结注入更多电子以保持电中性而产生增益。与同质结型相比有以下优点：①采用宽带发射区作为光学窗口大大提高量子效率。②采用宽带发射区提高注入效率，大大增加放大倍数β。对于短波长（短于0.9微米），常用GaAs-GaAlAs系统，对于长波长（长于1.1微米），则采用 InP-InGaAsP系统。对于后者，也可采用背面光照。这些系统基区均采用直接能隙半导体,光吸收率很高,故可做得较薄，大大缩短了基区渡越时间。
双极型光晶体管通常增益很高，但速度不太快，对于GaAs-GaAlAs，β可大于1000，响应时间大于纳秒（视增益大小不一）。其增益带宽积GB在小电流弱光照时受发射极和收集极充电时间常数限制；而在大电流或强光照时则基本上由基区渡越时间和收集极渡越时间决定。一般，fT为晶体管截止频率。当采用基区引线产生适当偏流时，可显著降低发射极充电时间常数，并为基区积累的光生载流子提供通路，减小基区等效寿命而缩短响应时间。GaAs-GaAlAs光晶体管响应时间为250皮秒或更短。
异质结光晶体管噪声决定于工作电流，小电流时噪声较低。但小电流工作时发射极时间常数增大，且空间电荷区复合流占主导成分，也造成增益降低（β正比于，I1-1/ne,n≈2）。为减小空间电荷区复合流,可用分子束外延生长法在靠发射结一端生长约300埃的宽带基区,并构成基区空间电荷区一部分，这就是"双基区"结构。
异质结光晶体管用于光探测器,其性能不劣于PIN光电二极管和场效应复合系统，另外也可用于光放大。
光场效应晶体管及其相关光电器件 GaAs MESFET可用作极高速光探测器(GaAs op FET),其响应时间为50皮秒或更短，增益可大于10（与工作条件有关）。它的缺点是光敏面积小。GaAs op FET及其相关的N沟光电器件的光增益机构有：①光异体机构，增益等于电子速度与空穴速度之比；②转移电子效应机构，其增益来自光生载流子在负迁移率区的空间电荷放大作用。与此相关还有许多其他平面型光电器件，其特点均是速度快（响应时间几十皮秒）、适于集成。这类器件可望在光电集成中得到应用。
双极型光晶体管 双极型光晶体管从结构上分为同质型和异质型两种。图为异质结光晶体管能带图。光在基区-收集区吸收，产生的空穴（多子）在基区积累,使发射结注入更多电子以保持电中性而产生增益。与同质结型相比有以下优点：①采用宽带发射区作为光学窗口大大提高量子效率。②采用宽带发射区提高注入效率，大大增加放大倍数β。对于短波长（短于0.9微米），常用GaAs-GaAlAs系统，对于长波长（长于1.1微米），则采用 InP-InGaAsP系统。对于后者，也可采用背面光照。这些系统基区均采用直接能隙半导体,光吸收率很高,故可做得较薄，大大缩短了基区渡越时间。
双极型光晶体管通常增益很高，但速度不太快，对于GaAs-GaAlAs，β可大于1000，响应时间大于纳秒（视增益大小不一）。其增益带宽积GB在小电流弱光照时受发射极和收集极充电时间常数限制；而在大电流或强光照时则基本上由基区渡越时间和收集极渡越时间决定。一般，fT为晶体管截止频率。当采用基区引线产生适当偏流时，可显著降低发射极充电时间常数，并为基区积累的光生载流子提供通路，减小基区等效寿命而缩短响应时间。GaAs-GaAlAs光晶体管响应时间为250皮秒或更短。
异质结光晶体管噪声决定于工作电流，小电流时噪声较低。但小电流工作时发射极时间常数增大，且空间电荷区复合流占主导成分，也造成增益降低（β正比于，I1-1/ne,n≈2）。为减小空间电荷区复合流,可用分子束外延生长法在靠发射结一端生长约300埃的宽带基区,并构成基区空间电荷区一部分，这就是"双基区"结构。
异质结光晶体管用于光探测器,其性能不劣于PIN光电二极管和场效应复合系统，另外也可用于光放大。
光场效应晶体管及其相关光电器件 GaAs MESFET可用作极高速光探测器(GaAs op FET),其响应时间为50皮秒或更短，增益可大于10（与工作条件有关）。它的缺点是光敏面积小。GaAs op FET及其相关的N沟光电器件的光增益机构有：①光异体机构，增益等于电子速度与空穴速度之比；②转移电子效应机构，其增益来自光生载流子在负迁移率区的空间电荷放大作用。与此相关还有许多其他平面型光电器件，其特点均是速度快（响应时间几十皮秒）、适于集成。这类器件可望在光电集成中得到应用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条