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1)  overetched ['əuvə,etʃid]
蚀刻过度的
2)  overetched ['əuvə,etʃid]
过蚀刻的
3)  Over etch
过刻蚀
1.
The main problems are the low Etch Rate Selectivity causing Over etch on the top Oxide of Gate and the low Etch Rate Uniformit.
18微米技术侧壁(Spacer)工艺在栅极密集区域,栅极底部有斜坡的缺陷,指出了现有设备和工艺所遇到的一些问题,然后针对所面临的主要问题,即因为刻蚀速率选择比不够高而造成对栅极上方氧化膜的过刻蚀,同时,刻蚀速率均匀性偏低,造成中心区域Spacer形状过于倾斜,线宽过小的问题。
4)  over-etching
过份蚀刻
5)  over-etched
腐蚀过度的
6)  etching depth
刻蚀深度
1.
The relation of energ/etching depth is obtained.
根据Grune公式就电子束能量对抗蚀剂刻蚀深度的影响进行了理论分析,并在SDS-2电子束曝光机上分别采用5keV、10keV、15keV、20keV、25keV、30keV等能量的电子束对国产胶苏州2号进行了曝光实验,得出了能量/刻蚀深度关系曲线。
2.
The etching depth of the circles showed a decreasing trend in the same processing conditions.
比较了相同实验条件下直线轨迹与圆环轨迹的刻蚀深度。
补充资料:光蚀刻

光蚀刻

photoetching

简称光刻。利用照相手段制作抗蚀膜像,用来保护表面,在金属、塑料等上面,借助腐蚀剂进行腐蚀的方法。应用于制作印片或电器的线路板等。

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