1) electric precipitation
电气沉积
2) electrochemical vapour deposition (EVD)
电化学气相沉积
3) vapor deposition
气相沉积
1.
Fabricating ceramic hard thin films by vapor deposition techniques;
气相沉积技术制备TiN类硬质膜
2.
The fabrication of TiO_2 nanotubules in porous anodic aluminum template with vapor deposition;
利用气相沉积法在模板中制备TiO_2纳米管的研究
3.
Synthesis of monodisperse Cu nano-particle template by vapor deposition
气相沉积法制备单分散Cu纳米颗粒模板
4) vapor deposit
气相沉积
1.
Organic silicon were deposited on silicon surface by chemical vapor deposition(CVD).
通过化学气相沉积的方法,在具有规则微形貌的硅片表面沉积硅的有机物制备出了超疏水表面,进而对表面的润湿性进行了对比。
5) chemical vapor deposition
气相沉积
1.
Ball-like diamond deposited on the chromized layer,P-Si(100) and Al2O3 substrates has been investigated using the hot-filament chemical vapor deposition equipment.
用热丝化学气相沉积设备研究了钢渗铬层、P-Si(100)基片和三氧化二铝基底表面形成的球形金刚石。
2.
Ti/HMS samples were prepared by hydrothermal synthesis(HTS)and chemical vapor deposition(CVD)methods and then silylated by trimethylchlorosilane(TMCS)and hexamethyldisilazane(HMDSZ)in a vapor phase.
分别用水热法和气相沉积法制备了Ti/HMS分子筛,采用三甲基氯硅烷(TMCS)和六甲基二硅氮烷(HMDSZ)对Ti/HMS样品进行了气相硅烷化,并用X射线衍射、N2吸附、红外光谱、29Si核磁共振和紫外-可见光谱对样品进行了表征。
3.
The MoW alloy film with nano-structure has been prepared on Al_2O_3 ceramic substrate using Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Mo(CO)_6 and W(CO)_6.
利用羰基金属气相沉积方法,在Al2O3陶瓷基片上,以Mo(CO)6+W(CO)6为源,制备了MoW纳米合金晶膜。
6) PVD
气相沉积
1.
Tribological Behavior of TiN Coatings Prepared by PVD Reactive Deposition;
TiN气相沉积涂层的摩擦磨损性能研究
补充资料：《比利时皇家电气专家协会通报电气评论》
《比利时皇家电气专家协会通报电气评论》
Bulletion de la Société Royale Beige des Electriciens avec Revue E
Bll一shi HuangjlaD旧nq一ZhuanjlaX一ehu一TongbaoD一onqlP inglun《比利时皇家电气专家协会通报电气评论》(B以let加de la Soc心乏尺刃以‘及才g‘己云‘E距以”必奋nsavecRevueE.)创刊于1885年，法文季刊，12开本，由比利时皇家电气专家协会编辑出版。编辑部地址:比利时，布普塞尔，Boulevard BrandWithlock 114 Btes，1200。 该刊是比利时皇家电气专家协会的通报，并附有“电气评论”，主要刊载核能、人工智能、电信网络等电子、电工领域的科技论文、科技简讯和会议动态。以法文和弗兰芒文对照出版。 该刊的读者对象是电子、电工部门的科技人员。
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参考词条