1) plasma-activated chemical vapor deposition
等离子激活化学汽相沉积<光>
2) plasma-activated chemical vapor deposition process
等离子激活化学汽相沉积法<光>
3) activated chemical vapor deposition process
激活化学汽相沉积法<光>
4) PECVD system
磁激活等离子体增强化学气相沉积
1.
Development of magnetic-actuated PECVD system;
磁激活等离子体增强化学气相沉积设备的研制
5) LICVD
激光诱导化学汽相沉积
1.
Effect of technologic parameters on particle diameters of nano-Si produced by LICVD;
制备参数和退火对激光诱导化学汽相沉积合成纳米硅的粒径和红外光谱的影响
6) PECVD
等离子体增强化学汽相沉积
1.
Firstly,the working principle of PECVD is introduced.
基于Open Inventor开发平台强大的引擎机制,用程序实现了连续式等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)系统(In-line PECVD System)的虚拟加工工作过程的仿真,从而保证物理样机的设计成功率、减少物理样机的设计与试制时间。
2.
This paper studied the optical properties of SiO_2 layers obtained by use of plasme-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), expounded the effect of deposition parameters and annealing on the layer properties.
研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550 nm中心波长损耗低于0。
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条