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1)  XPS spectrometer
XPS谱仪
2)  XPS spectra
XPS谱
1.
The XRD spectra and XPS spectra were measured for Sr doped La 1- x Sr x CoO 3 materials with perovskite structure prepared by the solid state reaction method.
测试了该材料的XRD和XPS谱 ,研究了不同热处理工艺对La1 -xSrxCoO3材料平均晶粒度的影响 ,研究了不同Sr掺杂量的La1 -xSrxCoO3阴极材料表面的化学状态。
2.
XPS spectra are obtained for the bleached and coloured statos in Ni2p3/2 and O1s regions.
着色没有自发过程,获取了着消色状态Ni2p3/2和O1s的XPS谱,表明在着色态镍被氧化,消色态镍被还原,相应地氧的化学环境发生改变。
3)  XPS spectrum
XPS谱
1.
The analysis of XPS spectrum of thin films formed by Cu cluster beam deposited onto Si substrate;
用能量3keV流强为4~6μA/cm2Ar+束,预溅射处理样品表面后,用XPS分析,常规磁控溅射室温下得到的Cu/P-Si(111)样品和铜团簇束沉积,偏压分别为0,1,3,5,10kV的样品XPS谱和块状Cu标样谱基本一样,Cu2P1、Cu2P3、CuLMM特征峰位没有移动,反映不出原子结合能差异。
4)  X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
X射线光电子能谱仪(XPS)
5)  XPS spectra
XPS光谱
1.
The influence of source gas flow rate ratio on the film bonding configuration, sp 2/sp 3 hybrid ratios and optical band gap were investigated by Raman, Infrared transmission spectra, UV_visible spectra and XPS spectra.
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响 。
6)  XPS
XPS能谱
补充资料:气相色谱-质谱联用仪
分子式:
CAS号:

性质:气相色谱仪和质谱仪联机(或通过接口),用分离分析的仪器,GC/MS都配有电子计算机,构成GC/MS/DS系统。GC用于混合试样各组分的分离。分离后的单一组分依次进入质谱系统:先经离子源将试样分子离子化,再经质量分析器将离子按质荷比m/z大小分离,顺序由检测器检测构成质谱信号。电子计算机则用作数据的采集、存储、处理、检索和仪器的自动调近代。在GC/MS联用仪中,为了不破坏质谱系统的高真空条件,以保证色谱仪和质谱仪间的匹配,必须采用适当的接口装置以排除色谱的载气,最常用的是分子分离器。若气相色谱中配用内径小于0.25mm的毛细管柱,则可直接与离子源连接,不必通过分离器。是鉴定复杂有机混合物的非常有效的工具。

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参考词条