1) XPS picture
XPS图谱
1.
This paper has been studied zirconia ceramic processing by isostatic method,The technology parameters are determined in the field of ZrO 2 ceramic to metal seal and finally,It shows XPS picture of reaction layer in the interfac
本文叙述了ZrO2 陶瓷用等静压工艺的制造方法 ,确定了ZrO2 陶瓷和金属封接的工艺参数 ,并且阐明了界面反应层的XPS图
2) XPS spectra
XPS谱
1.
The XRD spectra and XPS spectra were measured for Sr doped La 1- x Sr x CoO 3 materials with perovskite structure prepared by the solid state reaction method.
测试了该材料的XRD和XPS谱 ,研究了不同热处理工艺对La1 -xSrxCoO3材料平均晶粒度的影响 ,研究了不同Sr掺杂量的La1 -xSrxCoO3阴极材料表面的化学状态。
2.
XPS spectra are obtained for the bleached and coloured statos in Ni2p3/2 and O1s regions.
着色没有自发过程，获取了着消色状态Ni2p3／2和O1s的XPS谱，表明在着色态镍被氧化，消色态镍被还原，相应地氧的化学环境发生改变。
3) XPS spectrum
XPS谱
1.
The analysis of XPS spectrum of thin films formed by Cu cluster beam deposited onto Si substrate;
用能量3keV流强为4～6μA/cm2Ar+束,预溅射处理样品表面后,用XPS分析,常规磁控溅射室温下得到的Cu/P-Si(111)样品和铜团簇束沉积,偏压分别为0,1,3,5,10kV的样品XPS谱和块状Cu标样谱基本一样,Cu2P1、Cu2P3、CuLMM特征峰位没有移动,反映不出原子结合能差异。
4) XPS spectra
XPS光谱
1.
The influence of source gas flow rate ratio on the film bonding configuration, sp 2/sp 3 hybrid ratios and optical band gap were investigated by Raman, Infrared transmission spectra, UV_visible spectra and XPS spectra.
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响 。
5) XPS
XPS能谱
6) XPS spectrometer
XPS谱仪
补充资料：XPS
分子式：
CAS号：
性质：也称化学分析用电子能谱（ESCA），即以X射线为激发源激发原子内层电子的光电子能谱。该方法可以通过测定1s电子的结合能来鉴定样品的化学元素。此外，通过考察光电子峰的位移（称为化学位移）可以研究化合物的化学键和电荷分布，探讨固体表面的结构问题。
CAS号：
性质：也称化学分析用电子能谱（ESCA），即以X射线为激发源激发原子内层电子的光电子能谱。该方法可以通过测定1s电子的结合能来鉴定样品的化学元素。此外，通过考察光电子峰的位移（称为化学位移）可以研究化合物的化学键和电荷分布，探讨固体表面的结构问题。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条