1) Multi-Arc sputtering
多弧溅射
2) multi-arc magnetron sputtering
多弧-磁控溅射
3) multi-arc DC magnetron sputtering
多弧直流磁控溅射
4) multi target sputtering
多靶溅射
5) multilayer sputtering
多层溅射
1.
Tungsten silicides with different compositions are prepared from multilayer sputtering on silicon substrate by annealing at temperatures ranging from 400 to 1000℃ in vacuum.
采用多层溅射技术制备了不同成分的ＷＳｉｘ／Ｓｉ薄膜，然后利用真空退火形成硅化钨。
6) multi_component sputtering
多元靶溅射
补充资料：多功能磁控溅射镀膜机
多功能磁控溅射镀膜机
742
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条